题目内容

【题目】下图是工业上以有机物AE为基本原料制备有机物M的一种合成路线.A能与Na2CO3溶液及溴水反应,且1molA最多可与2molBr2反应;B的苯环上有四种不同化学环境的氢原子;EF均是芳香烃;M是一种具有特殊香气的物质

已知

④酚羟基易被高锰酸钾酸性溶液、浓硝酸等氧化

回答下列问题:

1)在F的同系物中,相对分子质量最小的物质是______(填名称);C中含氧官能团的名称为____________

2A的结构简式为___________E→F的反应类型为________

3D+G→M的化学方程式为_____________________________

4C的同分异构体中能同时满足下列条件的共有______种(不含立体异构);

①遇FeCl3溶液发生显色反应 ②能发生水解反应

其中核磁共振氢谱显示为5组峰,且峰面积比为22211的是_____(写结构简式)

5)参照有机物M的上述合成路线,设计一条由(CH3)3CCl为起始原料制备的合成路线___________________________

【答案】 羧基、醚键 取代反应 + + HCl 19

【解析】E、F均是芳香烃,F与氯气发生取代反应生成C7H7Cl,则FC7H8,故其结构简式为,ECH3Cl反应得到F,故E,F在光照条件下发生甲基上取代反应生成G,A能与Na2CO3溶液及溴水反应,A发生信息①中的取代反应生成B,B的苯环上有四种不同化学环境的氢原子,结合B的分子式,可知B,逆推可知A.B发生氧化反应生成C,C发生信息①中第二步的反应生成D,DG反应生成M是一种具有特殊香气的物质,则M

(1)在F的同系物中,相对分子质量最小的物质是苯;C,含氧官能团的名称为:羧基、醚键;(2)A的结构简式为,E→F的反应类型为取代反应;(3)D+G→M的化学方程式为: + + HCl;(4)C()的同分异构体中能同时满足下列条件:①遇FeCl3溶液发生显色反应,说明含有酚羟基,②能发生水解反应,说明含有酯基,有2个取代基时,其中一个取代基为-OH,另外取代基为-OOCCH3,-COOCH3,-CH2OOCH,各有邻、间、对3种;有3个取代基为-OH、-CH3,-OOCH,当-OH、-CH3处于邻位时,-OOCH4种位置,当-OH、-CH3处于间位时,-OOCH4种位置,当-OH、-CH3处于对位时,-OOCH2种位置,故符合条件的同分异构体共有19种;其中核磁共振氢谱显示为5组峰,且峰面积比为2:2:2:1:1的是:;(5)苯酚与(CH33CCl反应生成,再与(CH3)2SO4反应生成,然后与浓硝酸在浓硫酸、加热条件下发生硝化反应生成,最后与浓HI作用得到,合成路线流程图为:

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