题目内容
【题目】下列离子方程式正确的是
A.铁和稀硫酸反应:2Fe+6H+2Fe3++3H2↑
B.氯化铝溶液中加入过量氨水制取氢氧化铝:Al3++3NH3·H2OAl(OH)3↓+3
C.用FeCl3溶液腐蚀印刷电路板:Fe3++CuFe2++Cu2+
D.氢氧化钠溶液中通入少量二氧化硫气体 :SO2+OH
【答案】B
【解析】铁和稀硫酸反应,离子方程式:Fe+2H+Fe2++H2↑,故A错误;氯化铝溶液中加入过量氨水制取氢氧化铝,离子方程式:Al3++3NH3·H2OAl(OH)3↓+3,故B正确;用FeCl3溶液腐蚀印刷电路板,离子方程式:2Fe3++Cu2Fe2++Cu2+,故C错误;氢氧化钠溶液中通入少量二氧化硫气体,离子方程式:SO2+2OHH2O+,故D错误。
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