题目内容
氯气用途广泛，可用于生产半导体硅，生产的流程如下，下列说法不正确的是
| A．①③是置换反应，②是化合反应 |
| B．高温下，焦炭与氢气的还原性均强于硅 |
| C．任一反应中，每消耗或生成28 g硅，均转移4mol电子 |
| D．高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅 |
D
解析试题分析：A①③ 符合置换反应，②是化合反应，正确。B还原性：还原剂强于还原产物，正确。C硅的化合价的变化是+4→0或0→+4,变了四价，即每摩尔转移4mol电子，正确D石英砂含杂质，与焦炭混合反应生成硅中含有杂质，得到粗硅，错误。
考点：考查化学反应的基本类型氧化还原反应的电子转移等知识。
已知反应：①Cl2+2KBr＝2KCl+Br2，②KClO3 +6HCl＝3Cl2+KCl +3H2O，③2KBrO3 +Cl2＝Br2+2KClO3，下列说法正确的是
| A．上述三个反应都有单质生成，所以都是置换反应 |
| B．反应②中氧化剂与还原剂的物质的量之比为6∶1 |
| C．氧化性由强到弱顺序为 KBrO3＞KClO3＞Cl2＞Br2 |
| D．反应③中lmol还原剂反应则氧化剂得到电子的物质的量为2mol |
自然界存在NaIO3，可利用NaIO3与NaHSO3溶液来制取单质碘。反应分两步进行：IO3-+3HSO3-=I-+3SO42-+3H+；IO3-+5I-+6H+=3I2+3H2O。下列说法错误的是（ ）
| A．NaIO3是氧化剂， HSO3-是还原剂 |
| B．生产中可得到副产物H2SO4和Na2SO4 |
| C．I2既是氧化产物又是还原产物 |
| D．HSO3-的还原性比I-弱 |
在铁与铜的混合物中，加入不足量的稀硝酸．反应后剩余金属m1g；再向其中加入一定量稀硫酸，充分振荡后，剩余金属m2g，则m1与m2之间的关系是（ ）
| A．m1可能等于m2 | B．m1一定大于m2 |
| C．m1一定等于m2 | D．ml可能大于m2 |
二氧化氯是国际公认的高效安全杀菌消毒剂，工业制备ClO2的反应原理常采用：
2NaClO3 ＋ 4HCl ＝ 2ClO2↑＋Cl2↑＋2H2O＋2NaCl，下列关于该反应的说法中正确的是
| A．浓盐酸在反应中仅体现还原性 |
| B．每生成0.lmol ClO2转移0.5mol电子 |
| C．氧化性：NaClO3 <ClO2 |
| D．被氧化和被还原的物质的物质的量之比为1:1 |
在反应3S +6KOH=K2SO3 +2K2S +3H2O 中，作还原剂和作氧化剂的硫原子个数比为
| A．1:2 | B．2:1 | C．1:1 | D．3:2 |
有一混合溶液，其中只含有Fe2＋、Cl－、Br－、I－（忽略水的电离），Cl－、Br－、I－的个数比为2∶3∶4，向该溶液中通入氯气使溶液中Cl－和Br－的个数比为3∶1，则通入氯气的物质的量与溶液中剩余Fe2+的物质的量之比为
| A．7∶4 | B．7∶3 | C．7∶2 | D．7∶1 |
G、Q、X、Y、Z均为氯的含氧化合物，我们不了解它们的化学式，但知道它们在一定条件下有如下的转换关系(未配平)：① G → Q + NaCl ② Q+ H2O
X + H2 ③ Y + NaOH → G+ Q+H2O ④ Z + NaOH → Q + X + H2O 这五种化合物中，氯的化合价由低到高的顺序为
| A．GYZQX | B．GYQZX | C．QGZYX | D．ZXGYQ |
制取下列物质一定有氧化还原反应发生的是
| A．FeCl3 | B．Si | C．NH3 | D．SO2 |