题目内容
工业生产纯碱的工艺流程示意图如下：
完成下列填空：
(1)粗盐水加入沉淀剂A、B除杂质(沉淀剂A来源于石灰窑厂)，写出A、B的化学式。
A______________ B____________。
(2)实验室提纯粗盐的实验操作依次为：
取样、__________、沉淀、__________、__________、冷却结晶、__________、烘干。
(3)工业生产纯碱工艺流程中，碳酸化时产生的现象是__________________。
碳酸化时没有析出碳酸钠晶体，其原因是______________________．
(4)碳酸化后过滤，滤液D最主要的成分是______________(填写化学式)，检验这一成分的阴离子的具体方法是：______________________。
(5)氨碱法流程中氨是循环使用的，为此，滤液D加入石灰水产生氨。加石灰水后所发生的反应的离子方程式为：____________________________。
(6)产品纯碱中含有碳酸氢钠。如果用加热分解的方法测定纯碱中碳酸氢钠的质量分数，纯碱中碳酸氢钠的质量分数可表示为：__________(注明你的表达式中所用的有关符号的含义)。
(1)Ca(OH)2或CaO Na2CO3
(2)溶解 过滤 蒸发 过滤
(3)有晶体析出(或出现浑浊) 碳酸钠溶解度比碳酸氢钠大
(4)NH4Cl 取少量试样，加硝酸酸化，加硝酸银溶液有白色沉淀，该阴离子是氯离子
(5)NH4＋＋OH－
NH3↑＋H2O
(6)w(NaHCO3)＝
(m1表示反应前样品质量，m2表示加热后固体的质量)
【解析】(1)根据沉淀剂A的来源，可知A可能是CaO或Ca(OH)2。B的作用是用来除去加入过量的沉淀剂，为不引入新的杂质则选用Na2CO3。
(2)考查考生对粗盐提纯的基本技能操作：取样→溶解→沉淀→过滤→蒸发→冷却→结晶→过滤→烘干。
(3)氨化后的氯化钠溶液中通入CO2酸化，因在氨的作用下会产生碳酸氢钠：NaCl＋NH3·H2O＋CO2=NaHCO3↓＋NH4Cl，由于NaHCO3的溶解度较小，从溶液中析出。
(4)滤液中含有NH4Cl，Cl－的检验通常是用HNO3酸化的AgNO3溶液，若能产生白色沉淀，即可证明Cl－的存在。
(5)离子方程式是NH4＋NH3↑＋H2O。
(6)设样品质量为m1，加热后固体质量为m2。
2NaHCO3
Na2CO3＋CO2↑＋H2O Δm
168 62
x m1－m2
x＝
则NaHCO3的质量分数为：ω(NaHCO3)＝。
天天向上一本好卷系列答案
小学生10分钟应用题系列答案单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用焦炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500 ℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
a．四氯化硅遇水极易水解；
b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c．有关物质的物理常数见下表：
物 质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | － | 315 | － |
熔点/℃ | －70.0 | －107.2 | － | － | － |
升华温度/℃ | － | － | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题：
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式 ____________________________。
(2)装置A中g管的作用是________；装置C中的试剂是________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2＋＋MnO4－＋8H＋=5Fe3＋＋Mn2＋＋4H2O
滴定前是否要滴加指示剂？________(填“是”或“否”)，请说明理由______________________。
②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10－2 mol·L－1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________。
