题目内容

在25?C时,某氯化铵溶液的pH=4,下列说法中不正确的是


  1. A.
    溶液中c(H+)>c(OH-),且Kw=c(H+).c(OH-)=1×10-14mol2/L2
  2. B.
    由水电离出来的H+浓度为1×10-4mol/L-1
  3. C.
    溶液中c(Cl-)>c(NH4+)>c(H+)>c(OH-)
  4. D.
    此溶液中由水电离出来的c(H+)=c(OH-)
A
A、该溶液水解呈酸性,错误
B、盐类水解促进水的电离,正确;
C、铵根水解生成氢离子和一水合氨;正确
D、任何溶液中水电离的氢离子等于氢氧根离子。正确
练习册系列答案
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实验室有某氯化铁与氯化亚铁的混合物.现要测定其中铁元素的质量分数,实验按以下步骤进行:

I.请根据上面流程,圆答以下问题:
(1)操作I所用到的玻璃仪器除烧杯、玻璃棒外,还必须有
250ml容量瓶
250ml容量瓶
胶头滴管
胶头滴管
(填仪器名称)
(2)将沉淀物加热,冷却至室温,用天平称量其质量为b1 g,再次加热并冷却至室温称量其质量为b2 g,若b1-b2
小于0.1g
小于0.1g
,则视为灼烧充分;灼烧样品所需要的仪器有酒精灯、三脚架、
坩埚
坩埚
泥三角
泥三角
玻璃棒
玻璃棒
、坩埚钳.
(3)若蒸发皿质量是W1g,蒸发皿与加热后固体总质量是W2g,则样品中铁元素的质量分数是
1120(W2-W1)
160a
×100%
1120(W2-W1)
160a
×100%

II.有同学提出,还可以采用以下方法来测定:

(4)在量取待测液和滴定过程中需要用到的滴定管是
B
B
(填番号)
A.一支酸式滴定管和一支碱式滴定管    B两支酸式滴定管    C两支碱式滴定管
(5)滴定终点的现象为
当滴入最后一滴试液时,锥形瓶内溶液颜色变为紫红色且半分钟内不褪色
当滴入最后一滴试液时,锥形瓶内溶液颜色变为紫红色且半分钟内不褪色

(6)若滴定用掉c mol/L KMnO4溶液bmL,则样品中铁元素的质量分数是
14bc
5a
14bc
5a
(已知酸性条件下MnO4-被还原为Mn2+
(7)在试验过程中,下列操作可能造成铁元素的质量分数偏高的是
ABE
ABE
(填番号)
A.溶解样品时用稀盐酸代替稀硫酸
B.用铁单质做还原剂
C.量取滤液时未润洗对应滴定管
D.滴定前读数时满定管内无气泡,滴定后有气泡残留在滴定管尖端
E.配制c mol/L KMnO4标准溶液时未将洗涤液一并转移入容量瓶
F.试验时在锥形瓶中放了25.5mL含有Fe2+的待测液.

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式                  

(2)装置A中g管的作用是               ;装置C中的试剂是          ;装置E中的h瓶需要冷却理由是                 

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是              (填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+ ,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:

①滴定前是否要滴加指示剂?            (填“是”或“否”),请说明理由          

②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是           

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式                  

(2)装置A中g管的作用是               ;装置C中的试剂是          ;装置E中的h瓶需要冷却理由是                 

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是              (填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+ ,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:

①滴定前是否要滴加指示剂?            (填“是”或“否”),请说明理由          

②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是            

 

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

请回答下列问题:www.ks5.u.com

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式                  

(2)装置A中g管的作用是               ;装置C中的试剂是          ;装置E中的h瓶需要冷却理由是                 

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是              (填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+ ,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:

①滴定前是否要滴加指示剂?            (填“是”或“否”),请说明理由          

②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是           

 

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