题目内容
【题目】下列物质的用途错误的是（ ）
A.明矾：净水剂B.过氧化钠：供氧剂和漂白剂
C.碳酸氢钠：胃酸中和剂D.生石灰：食品抗氧化剂
【答案】D
【解析】
A. 明矾的主要成分是KAl(SO４)212H2O，是常用的净水剂，A项正确，不符合题意；
B. 过氧化钠与水或CO2反应均能生成氧气，且具有较强的氧化性，因此是供氧剂和漂白剂，B项正确，不符合题意；
C. 碳酸氢钠与胃酸反应生成氯化钠、水和CO2，是常用的胃酸中和剂，C项正确，不符合题意；
D. 生石灰的主要成分是CaO，与水反应生成Ca(OH)2，是常用的干燥剂，氧化钙不具有还原性，不能用作抗氧化剂，D项错误，符合题意；
答案选D。
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【题目】有未知浓度的Ba(OH)2和NaOH混合溶液，量取四份该溶液分别通入等量的CO2（已折算成标准状况下的体积，不考虑CO2在水中的溶解），生成沉淀的物质的量如下表：
实验序号 | Ⅰ | Ⅱ | Ⅲ | Ⅳ |
CO2体积(mL) | 2352 | 2352 | 2352 | 2352 |
样品体积(mL) | 20.0 | 30.0 | 40.0 | 50.0 |
沉淀物质的量(×10-2mol) | 1.50 | 4.50 | 6.00 | 7.50 |
（1）该混合溶液中Ba(OH)2的物质的量浓度=_____________。
（2）实验Ⅲ最后所得溶液中碳酸钠的物质的量=___________。
【题目】以硅石(主要成分SiO2)为起始原料生产高纯多晶硅的简化工艺流程如下图所示：
(1)在电弧炉中，生成粗硅的化学方程式为____________，该反应氧化剂与还原剂物质的量之比为_____________。
(2)合成炉中有关反应的数据如下表所示：
热化学方程式 | 平衡常数 | |
主反应 | Si(s)+3HCl(g) | K1 |
副反应 | Si(s)+4HCl(g) | K2 |
①主反应的温度需严格控制在280～300℃之间，若温度过低，则__________________；若温度太高，SiHCl3则会转化生成SiCl4，该转化的热化学方程式为_____________________。
②平衡时，
的值a随着
的值b的变化而变化，则
=______(用含K1、K2的代数式表示)。工业上用H2适当稀释HCl来提高的值，请用平衡移动原理加以解释________________________。
(3)还原炉中的主要反应为SiHCl3(g)+H2(g)=Si(s)+3HCl(g) △H>0。实验室中在1.0L密闭容器中研究得到SiHCl3的转化率在不同温度条件下随n(H2)/(SiHCl3)变化的曲线如图所示。t1、t2、t3表示的温度高低顺序为_______；t1温度时平衡常数Ka=______(保留两位小数)。
