题目内容

一块表面已被氧化为氧化钠的钠块5.4g,投入50g水中,最多能产生0.10g气体,则原来被氧化的钠是(   )

A.2.3gB.3.1gC.4.6gD.5.3g

A

解析试题分析:根据钠和水反应生成氢氧化钠与氢气的化学方程式,找到题给的已知量氢气的质量,求得参加反应的钠的质量,再计算出被氧化的钠的质量。
设产生0.10g氢气需钠的质量为x
2Na+2H2O=2NaOH+H2
46g            2g
x            0.1g
解得x=2.3g
则氧化钠的质量是5.4g-2.3g=3.1g
则对应的被氧化的钠的质量为=2.3g
答案选A。
考点:考查关键方程式以及钠被氧化的有关计算
点评:该题是中等难度的试题,侧重对学生答题能力的培养,有利于培养学生的规范答题能力。根据化学方程式计算时,反应物和生成物的质量关系都是纯量,注意解题格式要规范完整,另外本题还要注意审题,被氧化的钠和氧化钠是两码事,不能混淆。

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单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:

物质
SiCl4
BCl3
AlCl3
FeCl3
PCl5
沸点/℃
57.7
12.8

315

熔点/℃
-70.0
-107.2



升华温
度/℃


180
300
162
 
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式_________________________。
(2)装置E中的h瓶需要冷却的理由是_______________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的元素是________(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2+MnO4-+8H=5Fe3+Mn2+4H2O
①滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由__________________________________。
②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000 × 10-2 mol·L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00mL,则残留物中铁元素的质量分数是_______。

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