Question

【题目】高聚物的合成与结构修饰是制备具有特殊功能材料的重要过程。下图是合成具有特殊功能高分子材料W()的流程：

已知：

(1)①的反应类型是________。

(2)②是取代反应，其化学方程式是________。

(3)D的核磁共振氢谱中有两组峰且面积之比是1:3，不存在顺反异构。D的结构简式是________。

(4)⑤的化学方程式是________。

(5)G的结构简式是________。

(6)⑥的化学方程式是________。

(7)工业上也可用 合成E。由上述①~④的合成路线中获取信息，完成下列合成路线(箭头上注明试剂和反应条件， 不易发生取代反应)

Answer 1

【答案】

(1)加成反应；

(2)BrCH2CH2Br +2NaCN→NCCH2CH2CN + 2NaBr；

(3)(CH3)2C=CH2；

(4)CH2=C(CH3)COOH + HOCH3CH2=C(CH3)COOCH3 + H2O；

(5)；

(6)；

(7)

CH2=C(CH3)COOH

【解析】

试题分析：根据流程图，乙烯与溴反应生成A，A为1,2-二溴乙烷，A与氰化钠反应生成B，B为NCCH2CH2CN，B水解生成1.4-丙二酸，，分子内脱水生成，D为C4H8，D的核磁共振氢谱中有两组峰且面积之比是1:3，不存在顺反异构，则D为(CH3)2C=CH2，D催化氧化生成E，E为CH2=C(CH3)COOH，E与乙醇发生酯化反应生成F，F为CH2=C(CH3)COOCH3，根据W()的结构可知，I为，则H为，因此G为。

(1)反应①是烯烃的加成反应，故答案为：加成反应；

(2)反应②是取代反应，化学方程式为BrCH2CH2Br +2NaCN→NCCH2CH2CN + 2NaBr，故答案为：BrCH2CH2Br +2NaCN→NCCH2CH2CN + 2NaBr；

(3)根据上述分析，D为(CH3)2C=CH2，故答案为：(CH3)2C=CH2；

(4)反应⑤的化学方程式为CH2=C(CH3)COOH + HOCH3CH2=C(CH3)COOCH3 + H2O，故答案为：CH2=C(CH3)COOH + HOCH3CH2=C(CH3)COOCH3 + H2O；

(5)G为，故答案为：；

(6)反应⑥的化学方程式为，故答案为：；

(7)用 合成E[CH2=C(CH3)COOH]。由上述①~④的合成路线中的信息。可以由在氰化钠存在时发生取代反应生成，水解生成，最后在浓硫酸作用下发生消去反应即可。合成路线为 CH2=C(CH3)COOH，故答案为： CH2=C(CH3)COOH。