地壳里各种元素的含量中.含量最多的元素是元素.含量最多的金属元素是元素.含量最多的非金属元素是元素. 题目和参考答案——青夏教育精英家教网——

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地壳里各种元素的含量(质量分数)中，含量最多的元素是元素，含量最多的金属元素是元素，含量最多的非金属元素是元素。

氧；铝；氧

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从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：
（1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是

（填字母）．

（2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质

（选填“活泼”、“不活泼”）．
（3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：

①整个制备过程必须达到无水无氧．在H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是

②由粗硅制取三氯甲硅烷的化学方程式为

．
③在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是

；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是

2、地球是人类的家园．地壳里各种元素的含量差别很大，按质量计，含量最多的元素是（　　）

（2009?南京）从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答-下列问题：
（1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如右图所示，其中表示硅元素的是

（填字母）．
（2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，则常温下硅的化学性质

（选琐“活泼”、“不活泼”）．
（3）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产过程示意如下：

①整个制备过程必须达到无水无氧．在H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是

．
②在生产过程中物质A可循环使用，A的化学式是

；在生产过程中还有一种可循环使用的物质是

从20世纪中叶开始，硅成了信息技术的关键材料，是目前应用最多的半导体材料．请回答下列问题：
（1）地壳里各种元素的含量（质量分数）如图所示，其中表示硅元素的是

（填字母）．
（2）根据元素周期表可知，原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4，常温下硅的化学性质

（选“活泼”、“不活泼”）．

（2012?沙县质检）地壳里各种元素的含量（质量分数）如图所示，根据图中信息回答：
（1）图中显示的元素中，属于非金属元素的有（用元素符号表示，只要写一个）：

；
（2）图中显示的金属元素中，其金属活动性由强到弱的顺序是：

K、Ca、Na、Mg、Al、Fe

K、Ca、Na、Mg、Al、Fe

（用元素符号表示）；
（3）限以图中的元素为例，写出符合下列要求的物质的化学式（各写一个）：
①气态非金属单质

O₂

O₂

，②氧化物