Question

【题目】硅是一种重要的半导体材料，应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如图所示：

(1)写出上述流程中一种氧化物的化学式：______________；

(2)上述流程中最后一步反应的化学方程式为____________________________，该反应属于________(填基本反应类型)反应；

(3)如果还原SiHCl3过程中混入O2，可能引起的后果是________；

(4)该流程中可以循环利用的物质的化学式是__________。

Answer 1

【答案】 SiO2 SiHCl3＋H2Si＋3HCl 置换 爆炸 HCl

【解析】(1)上述流程中的氧化物是二氧化硅，化学式分别是SiO2；(2)三氯甲硅烷和氢气反应的化学方程式为：SiHCl3＋H2Si＋3HCl；(3)如果还原SiHCl3过程中混入O2，氧气和氢气混合达到一定程度时，在高温条件下会发生爆炸；(4)该流程中可以循环利用的物质是HCl。