题目内容
【题目】（1）生产电脑芯片的材料主要是高纯硅，工业生产硅的原理为 2C+SiO2 
Si+2CO↑，在反应中，SiO2发生了 _____（填“氧化”或“还原”）反应，该反应生产的是粗硅，将粗硅提纯才能得到高纯硅，在提纯过程中发生的反应之一是：H2+SiCl4 HCl+X，X 的化学式为_____；
（2）使用硬水会给生活和生产带来许多麻烦，如用硬水洗涤衣物，既浪费肥皂也洗不净衣物，下列方法中，可以有效降低水的硬度的是_____（填序号）。
A 将水煮沸 B 过滤 C 加明矾净化水
【答案】还原 HSiCl3 A
【解析】
（1）在该反应中，二氧化硅失去氧，发生了还原反应；
根据质量守恒定律，化学反应前后，原子的种类和数目不变，结合化学方程式：
，X的化学式为：HSiCl3；
（2）A、生活中，常用煮沸的方法降低水的硬度，符合题意；
B、过滤只能除去水中的不溶性物质，不能降低水的硬度，不符合题意；
C、加明矾只能使悬浮的不溶物沉降，不能降低水的硬度，不符合题意。
故选A。
备战中考寒假系列答案
【题目】KNO3和KCl在不同温度时的溶解度如表所示。请回答下列问题:
温度/°C | 0 | 10 | 20 | 30 | 40 | 50 | 60 | |
溶解度/g | KNO3 | 13.3 | 20.9 | 31.6 | 45.8 | 63.9 | 85.5 | 110 |
KCl | 27.6 | 31.0 | 34.0 | 37.0 | 40.0 | 42.6 | 45.5 | |
(1)依据上表数据,绘制出“m”和“n”两条溶解度曲线如图1,其中表示KCl溶解度曲线的是________。
(2)20 °C时,向10 g水中加入2.5 g KNO3充分搅拌得到x;再加入2.5 g KNO3充分搅拌得到y;继续升温至50 °C得到z;则x、y、z中为饱和溶液的是_____________，z 的溶液质量为_____________ g。
(3)如图2所示,20°C时,将盛有饱和KNO3溶液的小试管放人盛水的烧杯中,向烧杯内的水中加人某物质后,试管中有晶体析出。加入的物质可能是下列中的________________(填字母)。
A氢氧化钠固体
B生石灰固体
C冰块
D硝酸铵固体
