摘要: 四氯化硅结构和四氯化碳类似.对其性质判断(1)四氯化硅是分子晶体,四氯化硅沸点较低,其中正确的是( ) A. 只有 C.
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2005年12月2日新浪网报道,我国独立研制的具有自主知识产权的“龙芯2D”12月底完成流片.“龙芯2D”的面世,意味着中国在半导体产业上已取得了长足进步,同时将有着良好的发展前景.试回答下列问题:
(1)“龙芯”(芯片)的主要成分是单晶硅,硅位于元素周期表中第
(2)硅在一定条件下可以与氯气反应生成SiCl4,与氧气反应生成SiO2.四氯化硅结构中,所有原子最外层

.
(3)试判断SiCl4的沸点比CCl4的
(4)现在新开发出一种具有和“龙芯”主要成分一样的六角形笼状结构单质分子Si12,它可能在未来的量子计算机中是一个理想的贮存信息的材料,是种六角形笼状结构:它与单晶硅互称为
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(1)“龙芯”(芯片)的主要成分是单晶硅,硅位于元素周期表中第
3
3
周期ⅣA
ⅣA
族;(2)硅在一定条件下可以与氯气反应生成SiCl4,与氧气反应生成SiO2.四氯化硅结构中,所有原子最外层
是
是
(填“是、否”)都满足8电子稳定结构.用电子式表示四氯化硅的形成过程:(3)试判断SiCl4的沸点比CCl4的
高
高
(填“高或低”),理由SiCl4的相对分子质量比CCl4的大,范德华力大,因此沸点高.
SiCl4的相对分子质量比CCl4的大,范德华力大,因此沸点高.
(4)现在新开发出一种具有和“龙芯”主要成分一样的六角形笼状结构单质分子Si12,它可能在未来的量子计算机中是一个理想的贮存信息的材料,是种六角形笼状结构:它与单晶硅互称为
同素异形体
同素异形体
,硅原子之间是通过共价
共价
键结合的.2005年12月2日新浪网报道,我国独立研制的具有自主知识产权的“龙芯2D”12月底完成流片.“龙芯2D”的面世,意味着中国在半导体产业上已取得了长足进步,同时将有着良好的发展前景.试回答下列问题:
(1)“龙芯”(芯片)的主要成分是单晶硅,硅位于元素周期表中第______周期______族;
(2)硅在一定条件下可以与氯气反应生成SiCl4,与氧气反应生成SiO2.四氯化硅结构中,所有原子最外层______(填“是、否”)都满足8电子稳定结构.用电子式表示四氯化硅的形成过程:
______.
(3)试判断SiCl4的沸点比CCl4的______(填“高或低”),理由______
(4)现在新开发出一种具有和“龙芯”主要成分一样的六角形笼状结构单质分子Si12,它可能在未来的量子计算机中是一个理想的贮存信息的材料,是种六角形笼状结构:它与单晶硅互称为______,硅原子之间是通过______键结合的.
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本题包含2小题。?
Ⅰ.由SiO2制纯硅经过下列三步,试写出其中反应的化学方程式。?
(1)工业上在电炉中用碳还原SiO2制粗硅__________________________________________。
(2)粗硅在高温下与氯气反应生成四氯化硅________________________________________。
(3)四氯化硅经分馏、提纯用氢气还原,得纯硅____________________________________。
Ⅱ.由SiO2制取H2SiO3经过以下三步,试写出每步反应的化学方程式(是离子反应的写出离子方程式):?
(1)用NaOH溶液溶解SiO2:_____________________________________________。
(2)过滤,向滤液中加入盐酸,至沉淀不再产生:__________________________________。
(3)过滤,得固体;微热,得硅酸:_______________________________________________。
查看习题详情和答案>>我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法.由于三氯氢硅还原法具有一定优点,被广泛应用.其简化的工艺流程如图所示:

(1)制备三氯氢硅的反应为:Si(s)+3HCl(g)═SiHCl3(g)+H2(g)△H=-210kJ?mol-1.
伴随的副反应有:Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ?mol-1.
SiCl4在一定条件下与H2反应可转化为SiHCl3,反应的热化学方程式为:
SiCl4(g)+H2(g)═SiHCl3(g)+HCl(g)△H= .
(2)由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式为 .该生产工艺中可以循环使用的物质是 (至少写出两种).
(3)由于SiH4具有易提纯的特点,因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法.工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷,化学方程式是 ;整个制备过程必须严格控制无水,否则反应将不能生成硅烷,而是生成硅酸和氢气等,其化学方程式为 ;整个系统还必须与氧隔绝,其原因是 .
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(1)制备三氯氢硅的反应为:Si(s)+3HCl(g)═SiHCl3(g)+H2(g)△H=-210kJ?mol-1.
伴随的副反应有:Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)△H=-241kJ?mol-1.
SiCl4在一定条件下与H2反应可转化为SiHCl3,反应的热化学方程式为:
SiCl4(g)+H2(g)═SiHCl3(g)+HCl(g)△H=
(2)由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式为
(3)由于SiH4具有易提纯的特点,因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法.工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷,化学方程式是
“神舟”七号太空飞船的外壳是一种新型结构陶瓷材料,它的主要成分是氮化硅.氮化硅是一种高温陶瓷材料,它的硬度大、熔点高、化学性质稳定.
(1)氮化硅晶体属于 晶体.
(2)下列物质熔化时,所克服的微粒间作用力与氮化硅熔化时所克服的微粒间作用力相同的是 (填编号).
①单质I2和金刚石 ②晶体硅和二氧化硅 ③冰和干冰 ④金刚石和碳化硅
(3)已知氮化硅的晶体结构中,原子间都以单键相连,且氮原子与氮原子、硅原子与硅原子不直接相连,同时每个原子都满足8电子稳定结构,请写出氮化硅的化学式: .
(4)现用四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,可得到较高纯度的氮化硅,反应的化学方程式为 .
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(1)氮化硅晶体属于
(2)下列物质熔化时,所克服的微粒间作用力与氮化硅熔化时所克服的微粒间作用力相同的是
①单质I2和金刚石 ②晶体硅和二氧化硅 ③冰和干冰 ④金刚石和碳化硅
(3)已知氮化硅的晶体结构中,原子间都以单键相连,且氮原子与氮原子、硅原子与硅原子不直接相连,同时每个原子都满足8电子稳定结构,请写出氮化硅的化学式:
(4)现用四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,可得到较高纯度的氮化硅,反应的化学方程式为