摘要:28.工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料.其中部分原料可用于制备多晶硅. (1)上图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图.电解槽阳极产生的气体是 ,NaOH溶液的出口为 ,精制饱和食盐水的进口为 ,干燥塔中使用的液体干燥剂是 . (2)原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+.Mg2+.Fe3+.SO42-等杂质.必须精制后才能供电解使用.精制时.粗盐溶于水过滤后.还要加入的试剂分别为①Na2CO3.②HCl③BaCl2.这3种试剂添加的合理顺序是 . (3)多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产.其副产物SiCl4的综合利用收到广泛关注. SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同).方法为高温下SiCl4与H2和 O2反应.产物有两种.化学方程式为 . SiCl4也可转化为SiHCl3而循环使用.一定条件下.在20 L恒容密闭容器中发生反 应:3SiCl4(g)+2H24SiHCl3(g).达平衡后.H2与SiHCl3 物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L.若H2全部来源于离子交换膜 法的电解产物.理论上需消耗纯NaCl的物质的量为 mol. (4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92.3 KJ的热量,则该反应的热化学方程式为: .
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(本题满分18分,第1小题6分,第2小题6分,第3小题6分)
对于定义在D上的函数
,若同时满足
(Ⅰ)存在闭区间
,使得任取
,都有
是常数);
(Ⅱ)对于D内任意
,当
时总有
,则称
为“平底型”函数。
(1)判断
是否是“平底型”函数?简要说明理由;
(2)设
是(1)中的“平底型”函数,若
,对一切
恒成立,求实数
的范围;
(3)若
是“平底型”函数,求
和
满足的条件,并说明理由。
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(本题满分18分,第(1)小题4分,第(2)小题6分,第(2)小题8分)
已知双曲线C:
的一个焦点是
,且
。
(1)求双曲线C的方程;
(2)设经过焦点
的直线
的一个法向量为
,当直线![]()
与双曲线C的右支相交于
不同的两点时,求实数
的取值范围;并证明
中点
在曲线
上。
(3)设(2)中直线
与双曲线C的右支相交于
两点,问是否存在实数
,使得
为锐角?若存在,请求出
的范围;若不存在,请说明理由。
(本题满分18分)已知抛物线C的顶点在原点,焦点在y轴正半轴上,点
到其准线的距离等于5.
(Ⅰ)求抛物线C的方程;
(Ⅱ)如图,过抛物线C的焦点的直线从左到右依次与抛物线C及圆
交于A、C、D、B四点,试证明
为定值;
(Ⅲ)过A、B分别作抛物C的切线
且
交于点M,求
与
面积之和的最小值.
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