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①固体的热稳定性：Na2CO3＞CaCO3＞NaHCO3
②给出质子能力：CH3COOH＞CH3CH2OH＞H2O
③相同物质的量浓度溶液中c（NH+4）：（NH4）2SO4＞（NH4）2CO3＞NH4Cl
④微粒半径：r（H+）＞r（H）＞r（H-）
⑤熔沸点：H2S＞H2Se＞H2O
⑥不活泼金属单质一定不能与活泼盐溶液反应
以上归纳中正确的是（ ）
| A、①② | B、③④ | C、①③ | D、②⑥ |
(5分)晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3 ：Si + 3HCl（g）
SiHCl3 + H2（g）
③SiHCl3与过量H2在1000-1100℃反应制得纯硅：
SiHCl3（g） + H2（g）
Si（s）+ 3HCl（g）
已知SiHCl3能与H2O剧烈反应，且在空气中易自燃。
用SiHCI3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）
(1)装置B中的试剂是
(2)反应一段时间后，装置D中观察到的现象是 ，装置D不能采用普通玻璃管的原因是 。
(3)为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及 。
(4)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂是 。（填写字母代号）
a．碘水 b.氯水 c. NaOH溶液 d. KSCN溶液 e. Na2SO3溶液
查看习题详情和答案>>
(5分)右图是实验室常用的制取气体的装置
(1)采用B装置制取氧气时化学方程式：
(2)C装置用途很多，可用来洗气。如要除去O2中少量的CO2可用到此装置，此时瓶中盛 （填化学式）溶液，导管由 进 出（填d或e，下同） ；用排空气法收集氢气（瓶中为空气），导管由 进 出 。
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(5分)右图是实验室常用的制取气体的装置
(1)采用B装置制取氧气时化学方程式：
(2)C装置用途很多，可用来洗气。如要除去O2中少量的CO2可用到此装置，此时瓶中盛 （填化学式）溶液，导管由 进 出（填d或e，下同）；用排空气法收集氢气（瓶中为空气），导管由 进 出。
(5分)晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3：Si + 3HCl（g）
SiHCl3 + H2（g）
③SiHCl3与过量H2在1000-1100℃反应制得纯硅：
SiHCl3（g）+ H2（g）
Si（s）+ 3HCl（g）
已知SiHCl3能与H2O剧烈反应，且在空气中易自燃。
用SiHCI3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）
(1)装置B中的试剂是
(2)反应一段时间后，装置D中观察到的现象是 ，装置D不能采用普通玻璃管的原因是 。
(3)为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及 。
(4)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂是 。（填写字母代号）
a．碘水 b.氯水 c. NaOH溶液 d. KSCN溶液 e. Na2SO3溶液