（共14分）
（1）下列操作错误的是_________（填序号）
A. 用蒸发皿进行加热蒸发实验时，不垫石棉网。
B. 浓硫酸不慎沾到皮肤上，迅速用NaOH溶液清洗，再用水洗。
C. 蒸馏时，将温度计水银球插入液面以下。
D. 闻气体气味时，用手在容器口轻轻扇动，使少量气体飘入鼻孔中。
E. 使用分液漏斗和容量瓶时，首先检查是否漏液。
(2) 最近媒体报道了多起卫生间清洗时，因混合使用“洁厕灵”（主要成分是盐酸）与“84
消毒液”（有效成分是NaClO）发生氯气中毒的事件。根据你所学的氧化还原反应知识，用
离子方程式表示产生氯气的原因：                                            
(3) 已知向偏铝酸钠溶液中加入稀盐酸有氢氧化铝生成。某同学根据所学知识，提出不能使用该方法制取A1(OH)₃，理由为                               。（用离子方程式表示）请你另举出一种用氯化铝溶液制取A1(OH)₃的合理方法，该反应的离子方程式为                          。
(4)据有关报道。目前已能冶炼出纯度高达99．9999％的铁，下列关于纯铁的叙述中，正确的是           （填字母）。    
A．硬度比钢小，熔点比钢高              B．不能与盐酸反应
C．与不锈钢成分相同                         D．在冷的浓硫酸中钝化
(5)向沸水中逐滴滴加饱和FeCl₃溶液，至液体呈透明的红褐色时停止加热，所得分散系的分散质大小范围是                。
(6)合成氨工业生产中常用铁触媒做催化剂，其主要成分是FeO、Fe₂O₃。已知某铁触媒中，铁、氧离子的物质的量之比为4∶5，其中Fe²⁺与Fe³⁺物质的量之比为                。

（共14分）

（1）下列操作错误的是_________（填序号）

A. 用蒸发皿进行加热蒸发实验时，不垫石棉网。

B. 浓硫酸不慎沾到皮肤上，迅速用NaOH溶液清洗，再用水洗。

C. 蒸馏时，将温度计水银球插入液面以下。

D. 闻气体气味时，用手在容器口轻轻扇动，使少量气体飘入鼻孔中。

E. 使用分液漏斗和容量瓶时，首先检查是否漏液。

(2) 最近媒体报道了多起卫生间清洗时，因混合使用“洁厕灵”（主要成分是盐酸）与“84

消毒液”（有效成分是NaClO）发生氯气中毒的事件。根据你所学的氧化还原反应知识，用

离子方程式表示产生氯气的原因：                                            

(3) 已知向偏铝酸钠溶液中加入稀盐酸有氢氧化铝生成。某同学根据所学知识，提出不能使用该方法制取A1(OH)₃，理由为                                。（用离子方程式表示）请你另举出一种用氯化铝溶液制取A1(OH)₃的合理方法，该反应的离子方程式为                           。

(4)据有关报道。目前已能冶炼出纯度高达99．9999％的铁，下列关于纯铁的叙述中，正确的是            （填字母）。    

A．硬度比钢小，熔点比钢高              B．不能与盐酸反应

C．与不锈钢成分相同                                D．在冷的浓硫酸中钝化

(5)向沸水中逐滴滴加饱和FeCl₃溶液，至液体呈透明的红褐色时停止加热，所得分散系的分散质大小范围是                 。

(6)合成氨工业生产中常用铁触媒做催化剂，其主要成分是FeO、Fe₂O₃。已知某铁触媒中，铁、氧离子的物质的量之比为4∶5，其中Fe²⁺与Fe³⁺物质的量之比为                 。

相关信息如下：

a.四氯化硅遇水极易水解；

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

c.有关物质的物理常数见下表：

请回答下列问题：

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式____________。

(2)装置A中g管的作用是____________；装置C中的试剂是;装置E中的h瓶需要冷却的理由是____________________________________。

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是____________（填写元素符号）。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe²⁺,再用KMnO₄标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe²⁺+MnO^-4+8H⁺====5Fe³⁺+Mn²⁺+4H₂O

①滴定前是否要滴加指示剂？________（填“是”或“否”），请说明理由__________________。

②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10^-2 mol·L^-1 KMnO₄标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________________。

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450~500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解；

②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

③有关物质的物理常数见下表：

请回答下列问题：

（1）写出装置A中发生反应的离子方程式_____________________________________。

（2）装置A中g管的作用是______________；装置C中的试剂是____________；

装置E中的h瓶需要冷却的理由是__________________________________。

（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的元素是_____________（填写元素符号）。

（4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe^2＋,再用KMnO₄标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：

  5Fe^2＋＋MnO₄^－＋8H^＋====5Fe^3＋＋Mn^2＋＋4H₂O

①滴定前是否要滴加指示剂？___（填“是”或“否”），请说明理由_________________

②某同学称取5.000g残留物后，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10^－2 mol/L KMnO₄标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是_______________。