摘要:29.硅单质及其化合物应用范围很广. (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.工业上可以按如下步骤制备纯硅: Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅 Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃-500 ℃ 反应制得SiCl4 Ⅲ.SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃-1200 ℃ 反应制得纯硅 已知SiCl4沸点为57.6 ℃.能与H2O强烈反应.1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ.请回答下列问题: ①第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为 .第Ⅲ步反应的热化学方程式是 . ②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧.SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾.其生成物是 ,H2还原SiCl4过程中若混O2.可能引起的后果是 . ③上述生产过程所需氯气和氢气均由氯碱厂提供.氯碱厂的基本设备是离子交换膜电解槽.其中进入阳极室的溶液是 .b电极上的电极反应式是 . (2)二氧化硅大量用于生产玻璃.工业上用SiO2.Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg.生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示.则其中x= .

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