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[化学——选修3：物质结构与性质]（15分）
硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号为____ ，该能层具有的原子轨道数为____ 、电子数为 。
（2）硅主要以硅酸盐、____ 等化合物的形式存在于地壳中。
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以 相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献____ 个原子。
（4）单质硅可通过甲硅烷（SiH4）分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4C1在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为___ 。
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：
①硅与碳同族，也有系列氢化物，但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多，原因是 。
②SiH4的稳定性小于CH4，更易生成氧化物，原因是____ 。
（6）在硅酸盐中，SiO44－四面体（如下图（a））通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si原子的杂化形式为 。Si与O的原子数之比为 。
硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号为____ ，该能层具有的原子轨道数为____ 、电子数为 。
（2）硅主要以硅酸盐、____ 等化合物的形式存在于地壳中。
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以 相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献____ 个原子。
（4）单质硅可通过甲硅烷（SiH4）分解反应来制备。工业上采用Mg2Si和NH4C1在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为___ 。
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：
①硅与碳同族，也有系列氢化物，但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多，原因是 。
②SiH4的稳定性小于CH4，更易生成氧化物，原因是____ 。
（6）在硅酸盐中，SiO44－四面体（如下图（a））通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si原子的杂化形式为 。Si与O的原子数之比为 。
（1）若A能使湿润的红色石蕊试纸变蓝，C为红棕色气体，A、C中含有相同元素，该元素在元素周期表中的位置为
（2）若A元素属于短周期主族金属元素，B为白色固体，C为淡黄色固体，D是具有氧化性的单质，则A与D直接反应生成C的条件为
（3）若A、B、C、D分别为C、CO、CO2、O2，已知A、B的燃烧热分别为△HA=-393.5 kJ?mol-1、△HB=-283.0 kJ?mol-1，则A与D反应生成B的热化学方程式为
（4）若A是一种强电解质且在水溶液中电离出的阴、阳离子均含有10个电子，D是能使品红溶液褪色的气体，A电离出的阴离子的电子式为
（5）若D为氯碱工业的主要产品，B具有两性，则A、C两溶液混合的现象为
（6）若B是相对分子质量为64的氧化物，含氧50%，B气体通入H2S的溶液中出现淡黄色浑浊现象，其中发生反应的化学方程式为
已知:X+Y
Z+W
(1)Y的电子式是_________________________。
(2)液态Z和W的电离相似，都可电离出电子数相同的两种离子，液态Z的电离方程式是_________________________________。
(3)用图示装置制备NO并验证其还原性。有下列主要操作：
a.向广口瓶内注入足量热NaOH溶液，将盛有铜片的小烧杯放入瓶中。
b.关闭止水夹，点燃红磷，伸入瓶中，塞好胶塞。
c.待红磷充分燃烧，一段时间后打开分液漏斗旋塞，向烧杯中滴入少量稀硝酸。
①步骤c后还缺少的一步主要操作是_______________________________________。
②红磷充分燃烧的产物与NaOH溶液反应的离子方程式是 ___________________________________________________________________。
③步骤c滴入稀硝酸后烧杯中的现象是______________________________________
____________________________________________________________________。
反应的离子方程式是____________________________________________________。
(4)一定温度下，将1 mol N2O4置于密闭容器中，保持压强不变，升高温度至T1的过程中，气体由无色逐渐变为红棕色。温度由T1继续升高到T2的过程中，气体逐渐变为无色。若保持T2，增大压强，气体逐渐变为红棕色。气体的物质的量n随温度T变化的关系如图所示。
①温度在T1～T2之间，反应的化学方程式是_________________________。
②温度在T2～T3之间，气体的平均相对分子质量是（保留1位小数）______________。
查看习题详情和答案>>X、Y、Z、W为含有相同电子数的分子或离子，均由原子序数小于10的元素组成，X有5个原子核。通常状况下，W为无色液体。
已知:X+Y
Z+W
(1)Y的电子式是_________________________。
(2)液态Z和W的电离相似，都可电离出电子数相同的两种离子，液态Z的电离方程式是_________________________________。
(3)用图示装置制备NO并验证其还原性。有下列主要操作：
a.向广口瓶内注入足量热NaOH溶液，将盛有铜片的小烧杯放入瓶中。
b.关闭止水夹，点燃红磷，伸入瓶中，塞好胶塞。
c.待红磷充分燃烧，一段时间后打开分液漏斗旋塞，向烧杯中滴入少量稀硝酸。
①步骤c后还缺少的一步主要操作是_______________________________________。
②红磷充分燃烧的产物与NaOH溶液反应的离子方程式是 ____________________________________________________________________。
③步骤c滴入稀硝酸后烧杯中的现象是______________________________________
______________________________________________________________________。
反应的离子方程式是____________________________________________________。
(4)一定温度下，将1 mol N2O4置于密闭容器中，保持压强不变，升高温度至T1的过程中，气体由无色逐渐变为红棕色。温度由T1继续升高到T2的过程中，气体逐渐变为无色。若保持T2,增大压强，气体逐渐变为红棕色。气体的物质的量n随温度T变化的关系如图所示。
①温度在T1-T2之间，反应的化学方程式是_________________________。
②温度在T2-T3之间，气体的平均相对分子质量是（保留1位小数）______________。
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