（2009?泰州模拟）高纯超净特种气体主要用于制造半导体器件、化合物半导体、激光器、光导纤维、太阳能电池等．超纯硅化氢制备方法如下：（已知：常温下SiH₄难溶于水，与稀硫酸不反应，乙醚沸点34.6℃）
①由下列两种方法制得SiH₄
方法一：Mg₂Si+4NH₄Cl

液氨

SiH₄+2MgCl₂+4NH₃
方法二：LiAlH₄+SiCl₄

C2H5OC2H5

SiH₄+AlCl₃+LiCl
②除去SiH₄中混有的杂质气体
请回答下列问题：
（1）对方法一的理解，有同学认为是NH₄⁺水解产生H⁺，Mg₂Si与H⁺反应生成SiH₄，你认为该观点是否正确？并简述理由．
（2）将方法二的固体产物溶于水，只有一种物质能促进水的电离，则NaOH、Mg（OH）₂、LiOH碱性由强到弱的顺序为．
（3）两种方法制得的SiH₄中均含有少量杂质，有同学提出用下列方法除去SiH₄中的杂质，其中肯定不可行是．
a．用稀硫酸洗气     b．高温使杂质分解      c．低温分馏
（4）甲、乙、丙三同学在讨论SiH₄制备方法的化学反应类型时发表如下观点，你认为正确的是．
a．甲同学认为两个反应均为氧化还原反应
b．乙同学认为两个反应中只有一个属于氧化还原反应
c．丙同学认为要判断是否属于氧化还原反应，还需要知道SiH₄中各元素具体的化合价．