摘要:5.如图所示.光滑金属导体框竖直放置.质量为m的金属棒MN与框架接触良好.磁感应强度分别为B1.B2的有界匀强磁场方向相反.但均垂直于框架平面.分别处在abcd和cdef区域.现从图示位置由静止释放金属棒MN.当金属棒进入磁场B1区域后.恰好做匀速运动.以下说法中正确的有( ) A.若B2=B1.金属棒进入B2区域后将加速下滑 B.若B2=B1.金属棒进入B2区域后仍将保持匀速下滑 C.若B2<B1.金属棒进入B2区域后可能先加速后匀速下滑 D.若B2>B1.金属棒进入B2区域后可能先减速后匀速下滑 答案:BCD 解析:若B2=B1.金属棒进入B2区域后.磁场反向.回路电流反向.由左手定则知:安培力并没有反向.大小也没有变.故金属棒进入B2区域后.mg-=0.仍将保持匀速下滑.B对,若B2<B1.金属棒进入B2区域后.安培力没有反向但大小变小.由F=BIL=BL=知.mg->0.金属棒进入B2区域后可能先加速后匀速下滑.故C也对,同理.若B2>B1.金属棒进入B2区域后mg-<0.可能先减速后匀速下滑.故D也对.
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如图所示,光滑导体棒bc固定在竖直放置的足够长的平行金属导轨上,构成框架abcd,其中bc棒电阻为R,其余电阻不计。一质量为m,长度为L且电阻不计的导体棒ef水平放置在框架上,且始终保持良好的接触,能沿导轨无摩擦地滑动,导体棒ef与bc间的距离足够大,整个装置处在磁感应强度为B的匀强磁场中,磁场方向垂直框面,若用恒力F向上拉ef,则当ef匀速上升时,速度多大?
如图所示,光滑导体棒bc固定在竖直放置的足够长的平行金属导轨上,构成框架abcd,其中bc棒电阻为R,其余电阻不计.一不计电阻的导体棒ef水平放置在框架上,且始终保持良好接触,能无摩擦地滑动,质量为m.整个装置处在磁感应强度为B的匀强磁场中,磁场方向垂直框面.若用恒力F向上拉ef,则当ef匀速上升时,速度多大?
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如图所示,光滑导体棒bc固定在竖直放置的足够长的平行金属导轨上,构成框架abcd,其中bc棒电阻为R,其余电阻不计.一不计电阻的导体棒ef水平放置在框架上,且始终保持良好接触,能无摩擦地滑动,质量为m.整个装置处在磁感应强度为B的匀强磁场中,磁场方向垂直框面.若用恒力F向上拉ef,则当ef匀速上升时,速度多大?
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