摘要:11.如图(甲)所示中bacd为导体做成的框架.其平面与水平面成θ角.质量为m的导体棒PQ与ab.cd接触良好.回路的电阻为R.整个装置放于垂直框架平面的变化的磁场中.磁感应强度B的变化情况如图(乙)所示.PQ始终静止.则0~ts内(t=0时刻.安培力大于mgsinθ).PQ受到的摩擦力Ff的分析情况正确的是 A.Ff先减小后增大.且在t1时刻为零 B.Ff先减小后增大.且在t1时刻Ff=mgsinθ C.Ff先增大后减小.且在t1时刻为最大值 D.Ff先增大后减小.且在t1时刻Ff=mgsinθ
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如图甲所示,bacd为导体做成的框架,其平面与水平面成θ角,质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好,回路的电阻为R,整个装置放于垂直框架平面的变化磁场中,磁感应强度B的变化情况如图乙所示,PQ能够始终保持静止.试画出0~t2时间内PQ受到的安培力F随时间变化的图象(取沿斜面向上为正方向).

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如图甲所示,bacd为导体做成的框架,其平面与水平面成θ角,质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好,回路的电阻为R,整个装置放于垂直框架平面的变化磁场中,磁感应强度B的变化情况如图乙所示,PQ能够始终保持静止,则0~t2时间内,PQ受到的安培力F和摩擦力f随时间变化的图像可能正确的是(取平行斜面向上为正方向)
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如图甲所示,bacd为导体做成的框架,其平面与水平面成θ角,质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好,回路的电阻为R,整个装置放于垂直框架平面的变化磁场中,磁感应强度B的变化情况如图乙所示,PQ能够始终保持静止.试画出0~t2时间内PQ受到的安培力F随时间变化的图象(取沿斜面向上为正方向).

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