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一平行板电容器中存在匀强电场，电场沿竖直方向。两个比荷（即粒子的电荷量与质量之比）不同的带正电的粒子a和b，从电容器边缘的P点（如图）以相同的水平速度射入两平行板之间测得a和b与电容器的撞击点到入射点之闻的水平距离之比为1：2若不计重力，则a和b的比荷之比是
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A.1：2
B.1：1
C.2：1
D.4：1
B.1：1
C.2：1
D.4：1
D
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一平行板电容器中存在匀强电场，电场沿竖直方向．两个比荷（即粒子的电荷量与质量之比）不同的带正电的粒子a和b，从电容器边缘的P点（如图）以相同的水平速度射入两平行板之间．测得a和b与电容器的撞击点到入射点之间的水平距离之比为1：2．若不计重力，则a和b的比荷之比是（ ）
（2007?海南）一平行板电容器中存在匀强电场，电场沿竖直方向．两个比荷（即粒子的电荷量与质量之比）不同的带正电的粒子a和b，从电容器的P点（如图）以相同的水平速度射入两平行板之间．测得a和b与电容极板的撞击点到入射点之间的水平距离之比为1：2．若不计重力，则a和b的比荷之比是（ ）
一平行板电容器中存在匀强电场，电场沿竖直方向．两个比荷（即粒子的电荷量与质量之比）不同带正电的粒子K和P，速度关系为VK=2Vp，粒子均从电容器的A点水平射入两平行板之间，测得K和P与平行板的撞击点到入射点之间的水平距离之比为1：2．如图，若不计粒子的重力，则K和P的比荷之比是（ ）