3.
一定条件下存在反应C(s)+H2O(g)═CO(g)+H2(g):向甲、乙、丙三个恒容容器中加入一定量C和H2O,各容器中温度、反应物的起始量如下表,反应过程中CO的物质的量浓度随时间变化如图所示.下列说法正确的是( )
| 容器 | 甲 | 乙 | 丙 |
| 容积 | 0.5L | 0.5L | V |
| 温度 | T1℃ | T2℃ | T1℃ |
| 起始量 | 2molC 1molH2O | 1molCO 1molH2 | 4molC 2molH2O |
| A. | 甲容器中,反应在前15min的平均速率v(H2)=0.1 mol•L-1•min-1 | |
| B. | 丙容器的体积V>0.5L | |
| C. | 当温度为T1℃时,反应的平衡常数K=4.5 | |
| D. | 乙容器中,若平衡时n(H2O)=0.4 mol,则T1<T2 |
20.“化学是一门中心学科,与社会发展的需要有密切的关系”.下列有关叙述不正确的是( )
| A. | 为了防止食品受潮及富脂食品氧化变质,常在包装袋中放入硅胶和硫酸亚铁( ) | |
| B. | 积极推行和使用能被微生物降解的新型聚合物材料 | |
| C. | 绿色化学的核心是应用化学原理对环境污染进行治理 | |
| D. | 废旧电池应集中回收,不能填埋处理 |
19.下列元素中,属于短周期ⅦA族的是( )
| A. | Be | B. | F | C. | Br | D. | I |
18.下列离子反应方程式书写正确的是( )
| A. | 氯气与水反应:Cl2+H2O═Cl-+2H++ClO- | |
| B. | 氨气通入醋酸溶液中:NH3+H+═NH4+ | |
| C. | 制备Fe(OH)3胶体:Fe3++3H2O $\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$ Fe(OH)3(胶体)+3H+ | |
| D. | 碳酸氢钠溶液中加入过量石灰水:HCO3-+OH-═CO32-+H2O |
16.容积固定为3L的某密闭容器中加入1mol A、2mol B,一定温度下发生如下反应:
A(s)+2B(g)?C(g)+D(g),经反应5min后,测得C的浓度为0.3mol•L-1.则下列说法中正确的是( )
A(s)+2B(g)?C(g)+D(g),经反应5min后,测得C的浓度为0.3mol•L-1.则下列说法中正确的是( )
| A. | 5 min内D的平均反应速率为0.02 mol•L-1•min-1 | |
| B. | 5 min内A的平均反应速率为0.06 mol•L-1•min-1 | |
| C. | 经5 min后,向容器内再加入C,正反应速率变小 | |
| D. | 平衡状态时,生成1 mol D时同时生成1 mol A |
15.常温下20滴水为1mL,水的密度为1g/mL,每滴水含有a个水分子,则阿伏德罗常数可表示为( )
| A. | a | B. | 2a | C. | 18a | D. | 360a |
14.晶体硅是信息科学和能源科学中的一种重要材料,可用于制芯片和太阳能电池等,.以下是工业上制取纯硅的一种方法.

已知:在一定条件下可发生反应:Si(s)+3HCl(g)?SiHCl3(g)+H2(g)△H<0
I.反应②、③均需要加热,有如下两个温度区间分别供两反应选择,你认为反应②应选择a
(填序号字母),原因是因反应Si(s)+3HCl(g)?SiHCl3(g)+H2(g)△H<0,温度较低时反应向正向进行程度较大,有利于SiHCl3的生成;
a.520~530K b.1350~1360K
II.现在实验室模拟工业上粗硅提纯的过程,已知SiHCl3遇水强烈水解,其他相关数据如下表所示:
(1)现用如图1装置进行模拟反应②的过程.实验室制HCl的反应原理为:
2NaCl(s)+H2SO4(浓)$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$ 2HCl↑+Na2SO4

如图2A中是HCl的发生装置,你认为应选择下列哪套装置?d(填装置的序号字母),装置D中碱石灰的作用为吸收剩余HCl、防止空气中的水蒸气进入C装置造成SiHCl3的水解;
(2)已知液态粗品SiHCl3中含有杂质SiCl4、AlCl3、FeCl3等,则流程中操作①为分馏(填操作名称),下列不是该操作所需的仪器是bd(填装置序号字母);
a.冷凝管 b.圆底烧瓶 c.蒸馏烧瓶 d.分液漏斗 e.温度计 f.接受器
(3)用SiHCl3与H2反应制备纯硅的装置如土3
①按图示组装好仪器后,下列实验步骤的正确顺序为dbacef(填步骤的序号字母),
a.打开甲装置分液漏斗旋塞,滴加稀硫酸,反应生成H2;
b.向装置中添加药品;
c.打开丙装置分液漏斗的旋塞,滴加SiHCl3,并加热相应装置;
d.检查装置气密性;
e.停止向丙装置滴加SiHCl3,并停止加热相应装置;
f.停止通H2;
步骤c中需要加热的装置为丙、丁(填装置序号“甲”、“乙”、“丙”、“丁”)
②该套装置的设计缺陷是无尾气处理装置.
0 173740 173748 173754 173758 173764 173766 173770 173776 173778 173784 173790 173794 173796 173800 173806 173808 173814 173818 173820 173824 173826 173830 173832 173834 173835 173836 173838 173839 173840 173842 173844 173848 173850 173854 173856 173860 173866 173868 173874 173878 173880 173884 173890 173896 173898 173904 173908 173910 173916 173920 173926 173934 203614
已知:在一定条件下可发生反应:Si(s)+3HCl(g)?SiHCl3(g)+H2(g)△H<0
I.反应②、③均需要加热,有如下两个温度区间分别供两反应选择,你认为反应②应选择a
(填序号字母),原因是因反应Si(s)+3HCl(g)?SiHCl3(g)+H2(g)△H<0,温度较低时反应向正向进行程度较大,有利于SiHCl3的生成;
a.520~530K b.1350~1360K
II.现在实验室模拟工业上粗硅提纯的过程,已知SiHCl3遇水强烈水解,其他相关数据如下表所示:
| 物质 | SiCl4 | SiHCl3 | AlCl3 | FeCl3 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 33.0 | - | 315 |
| 升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 |
2NaCl(s)+H2SO4(浓)$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$ 2HCl↑+Na2SO4
如图2A中是HCl的发生装置,你认为应选择下列哪套装置?d(填装置的序号字母),装置D中碱石灰的作用为吸收剩余HCl、防止空气中的水蒸气进入C装置造成SiHCl3的水解;
(2)已知液态粗品SiHCl3中含有杂质SiCl4、AlCl3、FeCl3等,则流程中操作①为分馏(填操作名称),下列不是该操作所需的仪器是bd(填装置序号字母);
a.冷凝管 b.圆底烧瓶 c.蒸馏烧瓶 d.分液漏斗 e.温度计 f.接受器
(3)用SiHCl3与H2反应制备纯硅的装置如土3
①按图示组装好仪器后,下列实验步骤的正确顺序为dbacef(填步骤的序号字母),
a.打开甲装置分液漏斗旋塞,滴加稀硫酸,反应生成H2;
b.向装置中添加药品;
c.打开丙装置分液漏斗的旋塞,滴加SiHCl3,并加热相应装置;
d.检查装置气密性;
e.停止向丙装置滴加SiHCl3,并停止加热相应装置;
f.停止通H2;
步骤c中需要加热的装置为丙、丁(填装置序号“甲”、“乙”、“丙”、“丁”)
②该套装置的设计缺陷是无尾气处理装置.