题目内容
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
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①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式:_____________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式:____________________。
(2)化学研究性学习小组在探究硅的制取方法时,从资料查阅到下列信息:①Mg在高温条件下可与SiO2反应;②金属硅化物与稀H2SO4反应生成硫酸盐和SiH4;③SiH4在空气中自燃。
他们根据信息进行实验,当用足量稀H2SO4溶解第①步实验获得的固体产物时,发现有
爆鸣声和火花;然后过滤、洗涤、干燥;最后称量、计算,测得其产率只有预期值的63%左右。
①第①步实验发生反应的化学方程式是 ;______ ____。
②用稀H2SO4溶解第①步实验获得固体产物时,产生爆鸣声和火花的原因是(用化学方程式表示)_________________, 。
练习册系列答案
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3.下列叙述正确的是( )
①氧化还原反应的实质是元素的化合价发生改变
②若1mol气体的体积为22.4L,则它一定处于标准状况下
③标准状况下,1L HCl和1L H2O的物质的量相同
④在熔融状态下可以导电的物质就是电解质
⑤利用丁达尔现象区别溶液和胶体
⑥两种物质的物质的量相同,则它们在标准状况下的体积也相同
⑦在同温同体积时,气体物质的物质的量越大,则压强越大
⑧同温同压下,气体的密度与气体的相对分子质量成正比.
①氧化还原反应的实质是元素的化合价发生改变
②若1mol气体的体积为22.4L,则它一定处于标准状况下
③标准状况下,1L HCl和1L H2O的物质的量相同
④在熔融状态下可以导电的物质就是电解质
⑤利用丁达尔现象区别溶液和胶体
⑥两种物质的物质的量相同,则它们在标准状况下的体积也相同
⑦在同温同体积时,气体物质的物质的量越大,则压强越大
⑧同温同压下,气体的密度与气体的相对分子质量成正比.
| A. | 除③外 | B. | ④⑤⑥⑦⑧ | C. | ⑤⑦⑧ | D. | ①⑤⑦⑧ |
4.25℃,下列溶液的pH值最小的是( )
| A. | 0.01mol•L-1HCl | B. | pH=2的H2SO4溶液 | ||
| C. | c(OH)=10-13mol•L-1 | D. | pH=1溶液加水稀释1倍 |
17.人体血红蛋白中不可缺少的是( )
| A. | 单质的铁或铝 | B. | 铁离子的化合物 | C. | 铁元素 | D. | 铝元素 |
4.下列离子方程式书写不正确的是( )
| A. | 铝粉投入到NaOH溶液中:2Al+2OH-+2 H2O→2AlO2-+3H2↑ | |
| B. | Al2O3粉末溶于NaOH溶液中:Al2O3+2OH-→2AlO2-+H2O | |
| C. | 铁跟稀硫酸反应:2Fe+6H+→2Fe3++3H2↑ | |
| D. | 氧化亚铁放入盐酸中:FeO+2H+→Fe2++H2O |