题目内容
四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法,有关反应的化学方程式为:SiCl4(g)+2H2(g)
Si(s)+4HCl(g).下列说法合理的是( )
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| A、光导纤维的主要成分是硅单质 |
| B、减小压强有利于加快化学反应速率 |
| C、高温下,氢气的还原性强于硅 |
| D、混入少量空气对上述反应无影响 |
分析:A.光导纤维的主要成分是二氧化硅;
B.该反应中有气体参加反应,改变压强,反应速率改变;
C.还原剂的还原性大于还原产物;
D.硅能与氧气反应.
B.该反应中有气体参加反应,改变压强,反应速率改变;
C.还原剂的还原性大于还原产物;
D.硅能与氧气反应.
解答:解:A.光导纤维的主要成分是二氧化硅,不是硅单质,故A错误;
B.该反应中有气体参加反应,则减小压强,化学反应速率减小,故B错误;
C.还原剂的还原性大于还原产物,氢气是还原剂,硅是还原产物,故C正确;
D.硅能与氧气反应生成二氧化硅,所以混入少量空气对上述反应有影响,故D错误;
故选:C.
B.该反应中有气体参加反应,则减小压强,化学反应速率减小,故B错误;
C.还原剂的还原性大于还原产物,氢气是还原剂,硅是还原产物,故C正确;
D.硅能与氧气反应生成二氧化硅,所以混入少量空气对上述反应有影响,故D错误;
故选:C.
点评:本题考查硅的提纯及硅的性质,明确二氧化硅的用途及硅与氧气等发生的化学反应即可解答,题目难度不大.
练习册系列答案
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四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法,有关反应的化学方程式为:
SiCl4+2H2
4HCl+Si
下列说法不合理的是
| A.反应制得的硅可用于制造半导体材料 |
| B.增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率 |
| C.四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得 |
| D.混入少量空气对上述反应无影响 |