题目内容

16.现有a g由双原子分子构成的某气体,其摩尔质量为b g/mol.若阿伏伽德罗常数用NA表示,则:
①该气体的物质的量为$\frac{a}{b}$mol;                      
②该气体所含原子总数为$\frac{2a}{b}$NA
③该气体在标准状况下的体积为$\frac{22.4a}{b}$L;
④该气体溶于1L水中(不考虑反应),其溶液中溶质的质量分数为$\frac{100b}{b+1000}%$;
⑤该气体溶于水后配置成VL溶液,其溶质的物质的量浓度为:$\frac{a}{bV}$mol/L.

分析 ①据n=$\frac{m}{M}$计算;
②根据每个分子中含有的原子数计算总原子数;
③根据V=nVm计算;
④溶液中溶质的质量分数等于溶质质量和溶液质量的比值;
⑤根据c=$\frac{n}{V}$计算.

解答 解:①该气体的物质的量n=$\frac{a}{b}$mol,故答案为:$\frac{a}{b}$mol;                      
②该气体分子的物质的量n=$\frac{a}{b}$mol,故该气体所含原子总数为$\frac{2a}{b}$NA,故答案为:$\frac{2a}{b}$NA
③该气体在标准状况下的体积Va=nVm=$\frac{22.4a}{b}$L,故答案为:$\frac{22.4a}{b}$L;
④该气体溶于1L水中(不考虑反b应),其溶液中溶质的质量分数为$\frac{b}{b+1000}$×100%=$\frac{100b}{b+1000}%$;故答案为:$\frac{100b}{b+1000}%$;
⑤该气体溶于水后配置成VL溶液,其溶质的物质的量浓度c=$\frac{\frac{a}{b}mol}{VL}$=$\frac{a}{bV}$mol/L,故答案为:$\frac{a}{bV}$mol/L.

点评 本题考查常用化学计量的计算等,难度不大,注意对公式的理解与灵活运用.

练习册系列答案
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8.无论是从在国民经济中的地位来看,还是从科学发展的角度来看,硅都发挥着重要的作用.请回答下列问题:
(1)人类使用硅酸盐产品(陶瓷等)的历史已经快一万年了,但在1823年才获得单质硅,瑞典化学家贝采利乌斯用金属钾还原SiF4获得单质硅,写出化学方程式:
4K+SiF4═Si+4KF.
(2)由于制取方法和条件的不同,得到的单质硅形态不同,其性质也不同.
①用铝热法还原氟硅酸钾制得较纯净的晶体硅:
4Al+3K2SiF6$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$3Si+2KAlF4+2K2AlF5,关于该反应的说法正确的是AC(填序号).
A.Al是还原剂                     B.氧化产物只有KAlF4
C.每转移6NA电子,得到42g Si     D.Al元素在KAlF4和K2AlF5中化合价不同
②用白砂子与镁粉混合在高温条件下得到无定形硅,反应的化学方程式为:2Mg+SiO2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+2MgO.
③无定形硅和晶体硅的结构有很大的差别,无定形硅为棕色粉末,而晶体硅是纯灰色、不透明而有光泽的等轴八面晶体,无定形硅的化学性质比晶体硅活泼得多.通过上述描述你能得出的结论是结构决定性质,当结构不同时,物质的物理性质和化学性质可能存在较大差别.
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(5)单晶硅制作的半导体元件表面镀膜,使各元件之间彼此绝缘,以防短路,表面氧化(生成一氧化硅)技术前景广阔.以上信息说明一氧化硅具有绝缘性,用电解法对硅表面处理生成SiO薄膜时,硅应作电解池的阳极.

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