题目内容
二氧化硅、石灰石和纯碱（设均不含杂质），按质量比为18:5:5.3的比例混和，熔制得到玻璃，求玻璃中氧化物的质量百分组成？
答案：
解析：
解析：
三种反应物之间物质的量比： = =6:1:1
熔制玻璃过程有两个反应方程式：
熔制过程只放出二氧化碳气体，其他成分不变。硅酸盐的成分通常用氧化物的形式表示。氧化物的物质的量之比为： SiO2:CaO:Na2O=6:1:1 氧化物的质量比为： SiO2:CaO:Na2O=(6×60):(1×56) :(1×62)=360:56:62 氧化物总质量的份数：360＋56＋62=478（份） 质量百分组成为：
CaO：
|
↑
＋
＋
↑
：
×100％≈75.3％
×100％≈11.7％
：
×100％≈13％
练习册系列答案
口算小状元口算速算天天练系列答案
相关题目
（10分)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷
还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: 
①写出由纯
制备高纯硅的化学方程式: 。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成
、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为? ;
还原过程中若混入
可能引起的后果是? 。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是? (填字母)。
| A．碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥 |
| B．氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承 |
| C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维 |
| D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高 |
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释 。
还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: 
制备高纯硅的化学方程式: ____________________________________。
、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为___________________________;
还原
可能引起的后果是____________________________________。
还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: 
制备高纯硅的化学方程式: 。
、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为? ;
还原
可能引起的后果是? 。