聚乙烯醇肉桂酸酯(A)可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层．下面是一种合成该有机物的路线:已知:RCHO+R′CH2COOH请回答: (1)CH3COOH的电离方程式是 ,(2)反应①的类型是 .B中所含官能团的名称是 ,(3)反应②的化学方程式是 ,(4)E的分子式为C7H8O.符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 ①能与浓溴水反应产生白色沉淀②核磁共振氢题目和参考答案——青夏教育精英家教网——

题目内容

聚乙烯醇肉桂酸酯（A）可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层．下面是一种合成该有机物的路线：

已知：RCHO+R′CH2COOH

请回答：

（1）CH3COOH的电离方程式是__________；

（2）反应①的类型是__________，B中所含官能团的名称是__________；

（3）反应②的化学方程式是__________；

（4）E的分子式为C7H8O，符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是__________

①能与浓溴水反应产生白色沉淀

②核磁共振氢谱有4种峰

（5）F的化学名称是__________，并写出它与银氨溶液反应的离子方程式__________；

（6）A的结构简式是__________。

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