题目内容

已知(主要产物),下图中的A、B分别是发子式C3H7Cl的两种同分异构体。

请根据图中所示物质的转化关系和反应条件,判断并写出:

(1)A、B、C、D、E的结构简式_________、_________、_________、_________、_________。

(2)由E转化为B,由B转化为D的化学方程式。

(1)CH3CH2CH2Cl    CH3CH2CH2OH    CH3—CH=CH2

解析:C3H7Cl的两种同分异构体分别为CH3CH2CH3Cl和,A不论是二者中的哪一种结构,当在KOH醇溶液中发生反应时只生成一种结构:

CH3CH=CH2,D为


练习册系列答案
相关题目
氮化硅(Si3N4)是一种优良的高温结构陶瓷,在工业生产和科技领域中有重要用途.

Ⅰ.工业上有多种方法来制备氮化硅,常见的方法:

方法一  直接氮化法:在1 300~1 400℃时,高纯粉状硅与纯氮气化合,其反应方程式为
 

方法二  化学气相沉积法:在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和HCl,与方法一相比,用此法制得的氮化硅纯度较高,其原因是
 

方法三  Si(NH24热分解法:先用四氯化硅与氨气反应生成Si3N4和一种气体
 
(填分子式);然后使Si(NH24受热分解,分解后的另一种产物的分子式为
 

Ⅱ.(1)氮化硅抗腐蚀能力很强,但易被氢氟酸腐蚀,氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐,此盐中存在的化学键类型有
 

(2)已知:25℃,101kPa条件下的热化学方程式:
3Si(s)+2N2(g)═Si3N4(s)△H=-750.2kJ/mol    ①
Si(s)+2C12(g)═SiCl4(g)△H=-609.6kJ/mol    ②
1
2
H2(g)+
1
2
C12(g)═HCl(g)△H=-92.3kJ/mol    ③
请写出四氯化硅气体与氮气、氢气反应的热化学方程式:
 

Ⅲ.工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下:

精英家教网
已知:X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应,Y与X在光照或点燃条件下可反应,Z的焰色呈黄色.
(1)原料B的主要成分是
 
(填化学式).
(2)写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式:
 

(3)上述生产流程中电解A的水溶液时,阳极材料能否用Cu?
 
(填“能”或“不能”).写出Cu为阳极电解A的水溶液开始一段时间阴、阳极的电极反应方程式.阳极:
 
;阴极:
 

违法和不良信息举报电话:027-86699610 举报邮箱:58377363@163.com

精英家教网