Question

13．自来水厂的水源水（原水）通常含有各种杂质，必须经过去除固体杂质和悬浮物、消毒、去除异味等一系列净化工序（即净化过程），才能达到使用标准．
（1）原水净化有下列措施：①过滤，②添加混凝剂，③加入活性炭，④加入消毒剂．你认为正确的顺序是B；
A．①②③④B．②①③④C．②③①④D．④①②③
（2）原水中可以加入明矾作为混凝剂，从而达到去除固体杂质和悬浮物，其原理是明矾溶于水后生成的胶体可以吸附水中的悬浮颗粒并使之沉降．写出明矾中的Al³⁺水解生成胶体的离子方程式Al³⁺+3H₂O?Al（OH）₃（ 胶体 ）+3H⁺；
（3）目前我国不少自来水厂采用液氯消毒，液氯注入水中与水发生可逆反应，生成一种强酸和一种弱酸（次氯酸），该反应的化学方程式为Cl₂+H₂O?HCl+HClO．

Answer 1

分析 （1）水处理工序：除固体杂质和悬浮物、消毒、去除异味等；
（2）明矾中的弱酸根离子Al³⁺水解产生氢氧化铝胶体，能够吸附水中悬浮的物质形成沉淀而除去，从而达到达到净水的目的；
（3）氯气与水反应生成盐酸和次氯酸；臭氧有强氧化性能进行饮用水消毒．

解答 解：（1）根据处理过程：除固体杂质和悬浮物、消毒、去除异味等一系列净化工序，所以处理顺序为：②添加混凝剂①过滤③加入活性炭④加入消毒剂，故答案为：B；         
（2）明矾是强酸弱碱盐，铝离子能水解生成氢氧化铝胶体，反应的离子方程式为Al³⁺+3H₂O?Al（OH）₃+3H⁺，胶体具有吸附性，能吸附水中的悬浮物而达到净水的目的，故答案为：Al³⁺+3H₂O?Al（OH）₃（胶体）+3H⁺；
（3）氯气与水反应生成盐酸和次氯酸；方程式为Cl₂+H₂O?HCl+HClO，故答案为：Cl₂+H₂O?HCl+HClO．

点评 本题主要考查的是水的净化、自来水消毒等，涉及离子反应方程式以及化学反应方程式书写，难度不大．