题目内容

要除去中混有的少量气体，最好的方法是将气体过

[　　]

A．饱和溶液
B．溶液
C．饱和石灰水
D．烧碱溶液
答案：A
解析：

因B、C、D溶液都能与反应．


练习册系列答案
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（2009?泰州模拟）高纯超净特种气体主要用于制造半导体器件、化合物半导体、激光器、光导纤维、太阳能电池等．超纯硅化氢制备方法如下：（已知：常温下SiH4难溶于水，与稀硫酸不反应，乙醚沸点34.6℃）
①由下列两种方法制得SiH4
方法一：Mg2Si+4NH4Cl
液氨
SiH4+2MgCl2+4NH3
方法二：LiAlH4+SiCl4
C2H5OC2H5
SiH4+AlCl3+LiCl
②除去SiH4中混有的杂质气体
请回答下列问题：
（1）对方法一的理解，有同学认为是NH4+水解产生H+，Mg2Si与H+反应生成SiH4，你认为该观点是否正确？并简述理由
不正确，因为该反应在液氨中进行，非水体系，不会水解
不正确，因为该反应在液氨中进行，非水体系，不会水解
．
（2）将方法二的固体产物溶于水，只有一种物质能促进水的电离，则NaOH、Mg（OH）2、LiOH碱性由强到弱的顺序为
NaOH＞LiOH＞Mg（OH）2
NaOH＞LiOH＞Mg（OH）2
．
（3）两种方法制得的SiH4中均含有少量杂质，有同学提出用下列方法除去SiH4中的杂质，其中肯定不可行是
b
b
．
a．用稀硫酸洗气     b．高温使杂质分解      c．低温分馏
（4）甲、乙、丙三同学在讨论SiH4制备方法的化学反应类型时发表如下观点，你认为正确的是
bc
bc
．
a．甲同学认为两个反应均为氧化还原反应
b．乙同学认为两个反应中只有一个属于氧化还原反应
c．丙同学认为要判断是否属于氧化还原反应，还需要知道SiH4中各元素具体的化合价．

要除去CO2气体中所混有的少量HCl气体，最好的方法是将混合气通过

[　　]

A．饱和NaHCO3溶液
B．饱和Na2CO3溶液
C．饱和石灰水
D．氨水
要除去CO2气体中所混有的少量HCl气体，最好的方法是将混合气通过（　）

A．NaHCO3溶液　　　　  B．Na2CO3溶液　　　　   C．饱和石灰水　　　　    D．氨水

 

要除去CO2气体中所混有的少量HCl气体，最好的方法是将混合气通过（　）

A．NaHCO3溶液　　　　  B．Na2CO3溶液　　　　   C．饱和石灰水　　　　    D．氨水

 

要除去下列各物质中混有的杂质，请将所用试剂的化学式（只填一种）分别填写在横线上。

（1）除去硫酸钾溶液中混有的少量碳酸钾，选用的试剂      。

（2）除去氯化钠中混有的少量氯化镁，选用的试剂       。

（3）除去乙烷中混有的少量乙烯，选用的试剂       。

（4）除去氧化铁中混有的少量二氧化硅，选用的试剂       。

（5）除去二氧化碳气中混有的少量二氧化硫，选用的试剂       。

（6）除去铁粉中混有的少量铝粉，选用的试剂        。

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