题目内容

硅是一种重要的半导体材料,应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程如图所示:

(1)写出上述流程中一种氧化物的化学式:______________;

(2)上述流程中最后一步反应的化学方程式为____________________________,该反应属于________(填基本反应类型)反应;

(3)如果还原SiHCl3过程中混入O2,可能引起的后果是________;

(4)该流程中可以循环利用的物质的化学式是__________。

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