Question

【题目】2017年5月26日，Alpha Go人机配对赛开战，Alpha Go的芯片主要以高纯度的单质硅(Si)为原料制成。在半导体硅元件生产中，常用氢氟酸(HF)来清除硅表面的氧化膜，反应原理可表示为SiO2＋6HF=H2SiF6＋2X。已知硅元素显＋4价。下列说法错误的是(　　)

A.生成物X的化学式是H2OB.该反应是复分解反应

C.H2SiF6中氟元素显-1价D.地壳中硅元素含量仅次于氧元素

Answer 1

【答案】B

【解析】

A、由SiO2+6HF═H2SiF6+2X可知，反应前后硅原子都是1个，反应前氧原子是2个，反应后应该是2个，包含在2X中，反应前氢原子是6个，反应后应该是6个，其中有4个包含在2X中，反应前后氟原子都是6个，因此生成物X的化学式是H2O，该选项说法正确；
B、该反应不是两种化合物相互交换成分生成新的两种化合物，不是复分解反应，该选项说法不正确；
C、H2SiF6中氢元素化合价是+1，硅元素化合价是+4，根据化合物中元素化合价代数和为零可知，氟元素显-1价，该选项说法正确；
D、地壳中硅元素含量仅次于氧元素，该选项说法正确。
故选：B。