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有两种位于短周期的相邻周期、相邻主族的非金属元素X、Y,已知两元素最高价氧化物的水化物均为强酸。根据下图转化关系(反应条件及部分产物已略去),回答下列问题:
(1)若A、B、C、D均为含X元素的化合物,且A、F的一个分子中都只含有10个电子,则:
①A分子的空间构型为 ,F分子的电子式为 。
②反应 I 的化学方程式为 。
③化合物NaX3是合成“达菲”的中间活性物质,也是汽车安全气囊中的主要物质。NaX3受撞击后生成Na3X和另一种气体单质,请写出该反应的化学方程式 。
④ X的氧化物是形成光化学烟雾原因之一,工业上可采用它与其氢化物反应生成无毒害物质而除去,请用方程式表示该反应 。
(2)若A、B、C、D均为含Y元素的化合物,其中A由两种元素组成,且A的摩尔质量为120g·mol–1,则:
①将反应IV所得的溶液加热蒸干得到的晶体属于 晶体(填“离子”、“分子”、“原子”)
②反应 I 的化学方程式为 。
③含Y元素的化合物Na2Y和次氯酸钠溶液在强碱性环境中能发生反应,产物无沉淀,请写出该反应的离子反应方程式 。
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有两种位于短周期的相邻周期、相邻主族的非金属元素X、Y,已知两元素最高价氧化物的水化物均为强酸。根据下图转化关系(反应条件及部分产物已略去),回答下列问题:
(1)若A、B、C、D均为含X元素的化合物,且A、F的一个分子中都只含有10个电子,则:
①A分子的空间构型为 ,F分子的电子式为 。
②反应 I 的化学方程式为 。
③化合物NaX3是合成“达菲”的中间活性物质,也是汽车安全气囊中的主要物质。NaX3受撞击后生成Na3X和另一种气体单质,请写出该反应的化学方程式 。
④ X的氧化物是形成光化学烟雾原因之一,工业上可采用它与其氢化物反应生成无毒害物质而除去,请用方程式表示该反应 。
(2)若A、B、C、D均为含Y元素的化合物,其中A由两种元素组成,且A的摩尔质量为120g·mol–1,则:
①将反应IV所得的溶液加热蒸干得到的晶体属于 晶体(填“离子”、“分子”、“原子”)
②反应 I 的化学方程式为 。
③含Y元素的化合物Na2Y和次氯酸钠溶液在强碱性环境中能发生反应,产物无沉淀,请写出该反应的离子反应方程式 。
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(1)若A、B、C、D均为含X元素的化合物,且A、F的一个分子中都只含有10个电子,则:
①A分子的空间构型为 ,F分子的电子式为 。
②反应 I 的化学方程式为 。
③化合物NaX3是合成“达菲”的中间活性物质,也是汽车安全气囊中的主要物质。NaX3受撞击后生成Na3X和另一种气体单质,请写出该反应的化学方程式 。
④ X的氧化物是形成光化学烟雾原因之一,工业上可采用它与其氢化物反应生成无毒害物质而除去,请用方程式表示该反应 。
(2)若A、B、C、D均为含Y元素的化合物,其中A由两种元素组成,且A的摩尔质量为120g·mol–1,则:
①将反应IV所得的溶液加热蒸干得到的晶体属于 晶体(填“离子”、“分子”、“原子”)
②反应 I 的化学方程式为 。
③含Y元素的化合物Na2Y和次氯酸钠溶液在强碱性环境中能发生反应,产物无沉淀,请写出该反应的离子反应方程式 。
A、B、C、D、E是原子序数依次增大的短周期元素,A、D在周期表中的相对位置如表,且元素A的最高正化合价与最低负化合价的绝对值相差2,B与D属于同主族元素;元素C是一种银白色金属,放置在空气中会迅速变暗。
(1)D的原子结构示意图为 ;
(2)元素E在元素周期表中位于第 族;
(3)C、D、E离子半径的大小关系为 (用离子符号表示);
(4)元素B的单质与元素C的单质加热时生成化合物甲,化合物甲中所含化学键为
试写出甲与水反应的离子方程式 ;
(5)若乙是元素A的最简单气态氢化物,丙是元素C的最高价氧化物对应的水化物。
①pH相同的乙和丙的水溶液,分别用蒸馏水稀释到原来的x、y倍,稀释后两种溶液的pH仍然相同,则x y(填写“>”、“<”或“=” )
②在微电子工业中,乙的水溶液常用作刻蚀剂H2O2的清除剂,反应的产物不污染环境,其化学方程式为 (不需要配平)。
查看习题详情和答案>>A、B、C、D、E是原子序数依次增大的短周期元素,A、D在周期表中的相对位置如表,且元素A的最高正化合价与最低负化合价的绝对值相差2,B与D属于同主族元素;元素C是一种银白色金属,放置在空气中会迅速变暗。
(1)D的原子结构示意图为 ;
(2)元素E在元素周期表中位于第 族;
(3)C、D、E离子半径的大小关系为 (用离子符号表示);
(4)元素B的单质与元素C的单质加热时生成化合物甲,化合物甲中所含化学键为
试写出甲与水反应的离子方程式 ;
(5)若乙是元素A的最简单气态氢化物,丙是元素C的最高价氧化物对应的水化物。
①pH相同的乙和丙的水溶液,分别用蒸馏水稀释到原来的x、y倍,稀释后两种溶液的pH仍然相同,则x y(填写“>”、“<”或“=” )
②在微电子工业中,乙的水溶液常用作刻蚀剂H2O2的清除剂,反应的产物不污染环境,其化学方程式为 (不需要配平)。
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