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选择题
题号
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
答案
D
B
D
D
D
D
C
A
D
B
题号
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
答案
C
A
C
B
A
D
B
C
B
D
21．（1）24FeSO4+30HNO3→8Fe（NO3）3+8Fe2（SO4）3+3N2O+15H2O
（2）FeSO4 +5价N （3） 得到 4
22．（1）>。在亚硫酸氢钠溶液中，存在HSO3-的电离平衡：HSO3- 
H++SO32-，还有HSO3-的水解平衡：HSO3-+H2OH2SO3+OH-。由题给信息[SO32-]>[H2SO3]可得出，其水解程度比电离程度弱，所以可确定[H+]>[OH-]。
（2）含酚酞的氢氧化钠溶液的红色褪去，溶液呈无色。加入少量氢氧化钠溶液时，只有HSO3-反应，反应的离子方程式为：HSO3-+OH-=SO32-+H2O。
23．（1） 0.01mol/L. min
（2） a=0.05 mol/L 图象如右
（3） BD
24．（1）Br2 ；Fe3+
（2）
乙 同学正确
选用试剂
实验现象
第一种方法
C
有机层无色
第二种方法
D
溶液变红
（3）Fe2+；不可以，因为Br2和Fe3+都能把I―氧化成I2
25．（1）b；
（2）将亚铁离子氧化为铁离子；
（3）除去过量的硫酸；不引入新的杂质；
（4）Fe3++3H2O=Fe（OH）3↓+3H+；（条件：加热）
（5）抑制Cu2+的水解；产生污染环境的二氧化硫，硫酸利用率低；加热，并在稀硫酸中通入氧气。（注：本题为发散性试题，如有其它合理答案，酌情给分）
26．
⑴ C6H5－CH－18OH CH3CH2－ －18OH
⑵C6H5－CH－18OH＋HCOOH
HCO18O－CH－C6H5＋H2O
⑶
计算题
27．（1）0.8mol/L （2）29.6%
附加题
1．B
2．C
3．（1）除去混在氢气中的酸性气体
（2）A B、C； 将E中的产生的硫酸亚铁溶液压入D中
（3）②
（4）用氢氧化钠溶液除去混在氢气中的酸性气体；氢氧化钠溶液重复使用；用氢气驱赶氧气，防止亚铁盐被氧化；等其它合理答案
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①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅 ②粗硅与干燥HCl气体反应制SiHCl3：Si+3HCl
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③SiHCl3与过量H2在1000～1100℃反应制得纯硅．
已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃．请回答下列问题：
（1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为
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（2）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3（沸点33.0℃）中含有少量SiCl4（沸点57.6℃）和HCl（沸点-84.7℃），提纯SiHCl3采用的方法为：
（3）用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：
①装置B中的试剂是
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是
| ||
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③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是
a．碘水b．氯水c．NaOH溶液d．KSCN溶液e．Na2SO3溶液．
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3：Si+3HCl
SiHCl3+H2
③SiHCl3与过量H2在1000～1100℃反应制得纯硅
已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。
请回答下列问题：
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为_______________________________。
(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃)，提纯SiHCl3采用的方法为____________________。
(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)：
①装置B中的试剂是_________________________。
装置C中的烧瓶需要加热，其目的是_____________________________________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是______________________________________，装置D不能采用普通玻璃管的原因是____________________________________，装置D中发生反应的化学方程式为__________________________________________。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及______________________________________。
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是_________________。
a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液
查看习题详情和答案>>①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:
Si+3HCl
SiHCl3+H2
③SiHCl与过量H2在1 000—1 100℃反应制得纯硅
已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自然。
请回答下列问题：
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为__________________________________________。
(2)粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃),提纯SiHCl3采用的方法为_______。
(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图1-3-8(热源及夹持装置略去)：
图1-3-8
①装置B中的试剂是_______。
装置C中的烧瓶需要加热，其目的是_____________________________________________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是______________________________________。
装置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________，装置D中发生反应的化学方程式为______________________________。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及_______。
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是_______。
a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液
查看习题详情和答案>>（18分）晶体硅是一种重要的非金属材料。制备纯硅的主要步骤如
下：
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制SiHCl3：Si＋3HCl SiHCl3＋Ｈ2
③SiHCl3与过量Ｈ2在1000～1100℃反应制得纯硅。
已知SiHCl3能与Ｈ2Ｏ强烈反应，在空气中易自燃。
请回答下列问题：
（1）第①步制备粗硅的化学反应方程式为 。
（2）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3（沸点33.0℃）中含有少量SiCl4（沸点57.6℃）和HCl（沸点－84.7℃），提纯SiHCl3采用的方法为： 。
（3）用SiHCl3与过量Ｈ2反应制备纯硅的装置如下（热源及夹持装置略去）：
①装置Ｂ中的试剂是 ，装置Ｃ中的烧瓶需要加热，其目的是： 。
②反应一段时间后，装置Ｄ中观察到的现象是 ，装置Ｄ不能采用普通玻璃管的原因是 ，装置Ｄ中发生反应的化学方程式为 。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及 。
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂（填写字母代号）是
ａ．碘水 ｂ．氯水 ｃ．ＮaＯＨ溶液 ｄ．KSCN溶液 ｅ．Ｎa2ＳＯ3溶液
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