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16.（1）水 浓硫酸 ；（2）检查气密性，将G弯管浸没在盛有水的烧杯中，温热烧瓶B，观察G管口，若有气泡逸出，说明装置的气密性良好；
（3）先从A瓶逐滴滴加液体， 检验H2的纯度；（4）
， 
。
17.(1) 2Fe3＋＋H2S
= S↓＋2Fe2＋＋2H＋， Na2S＋2H2O
S↓＋H2↑＋2NaOH
或S2－＋2H2OS↓＋H2↑＋2OH－，产物NaOH可循环使用，也可得副产品H2；
(2)阳离子(Na＋)，钛(或石墨)；
(3)4， 正四面体。
18.（1）Al(OH)3+OH－--=AlO2－+2H2O ； （2）
；
（3）SO2+Cl2+2H2O=H2SO4+2HCl ； （4）HCl＞H2S；
（5）S2-＞Cl -＞Na＋＞Al3＋；（6）Cl2O7(l)+H2O(l)=2HClO4(aq)；△H=－4QkJ/mol。
19. (1) ①SiHCl3+H2= Si+3HClwww. Ks5 u.com
②3SiHCl3+3H2O===H2SiO3+H2↑+3HCl;高温下，H2遇O2发生爆炸。(2)ABCE
(3)生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成。
20.
(1)NaCl; (2)Cu+2H2SO4
CuSO4+ SO2↑+2H2O,高温、催化剂； (3)CH3CH2OH。
21. ⑴b ； ⑵加热褪色后的溶液，若溶液恢复红色，则原通入气体为SO2，若溶液不变红，则原通入气体是O3 ； ⑶2Fe+3Cl2
2FeCl3 Fe+SFeS(其他合理答案均给分)；
⑷①H-C≡N ； ⑸16w1:(44w2-aw1)。
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
| ||
| ||
②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式
（2）下列有关硅材料的说法正确的是
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高
D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。
三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 ；
H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是
。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是 (填字母)。
| A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥 |
| B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承 |
| C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维 |
| D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高 |
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硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 ；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是 。
（2）下列有关硅材料的说法正确的是 (填字母)。
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释 。
查看习题详情和答案>>（10分)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷
还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
①写出由纯
制备高纯硅的化学方程式: 。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成
、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为? ;
还原过程中若混入
可能引起的后果是? 。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是? (填字母)。
A．碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释 。
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（10分)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷
还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: 
①写出由纯
制备高纯硅的化学方程式: 。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成
、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为? ;
还原过程中若混入
可能引起的后果是? 。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是? (填字母)。
| A．碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥 |
| B．氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承 |
| C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维 |
| D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高 |
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释 。 查看习题详情和答案>>