Question

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。
三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式                                 。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式                                             ；
H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 
                                                                            。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是        (填字母)。

A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
高温

Answer 1

（1） SiHCl₃+H₂======Si+3HCl（2分）  SiHCl₃+3H₂O=H₂SiO₃↓+3HCl+H₂↑(2分)
H₂与O₂反应爆炸 ，生成的水与SiHCl₃反应， 生成的Si与O₂反应生成SiO₂(2分)  
（2）ABCD(4分)

解析