摘要:工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料.其中部分原料可用于制备多晶硅. (1)如图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图.电解槽阳极产生的气体是 ,NaOH溶液的出口为 ,精制饱和食盐水的进口为 ,干燥塔中应使用的液体是 . (2)多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产.其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注. ①SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同).方法为高温下SiCl4与H2和O2反应.产物有两种.化学方程式为 . ②SiCl4可转化为SiHCl3而循环使用.一定条件下.在20L恒容密闭容器中的反应: 3SiCl4(g)+2H24SiHCl3(g) 达平衡后.H2与SiHCl3物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L.若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物.理论上需消耗纯NaCl的质量为 kg. (3)采用无膜电解槽电解饱和食盐水.可制取氯酸钠.同时生成氢气.现制得氯酸钠213.0kg.则生成氢气 m3.

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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅。

(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是     ; NaOH溶液的出口为______ (填字母);精制饱和食盐水的进口为_____ (填字母);干燥塔中使用的液体干燥剂是____(每空2分)。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用。精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加人的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)、③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是     (2分)(填序号)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为                          也可转化为而循环使用。一定条件下,在200C恒容密闭容器中发生反应: ,达平衡后,H2与SiHCL3物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ mol。

(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量,则该反应的热化学方程式为:                                    

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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅。

(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是     ; NaOH溶液的出口为______ (填字母);精制饱和食盐水的进口为_____ (填字母);干燥塔中使用的液体干燥剂是____(每空2分)。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用。精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加人的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)、③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是     (2分)(填序号)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为                          (2分)。也可转化为而循环使用。一定条件下,在200C恒容密闭容器中发生反应: ,达平衡后,H2与SiHCL3物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ (2分)mol。

(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量,则该反应的热化学方程式为:                                    (2分)。

 

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