摘要: 光刻胶是大规模集成电路.印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B. A B ⑴请写出A中含有的官能团 . ⑵A经光照固化转变为B.发生了 反应. ⑶写出A与NaOH溶液反应的化学方程式 . ⑷写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式 .
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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.
(1)请指出A中含有的官能团名称
(2)A经光照固化转变为B,发生了
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式.
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
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(1)请指出A中含有的官能团名称
酯基、碳碳双键
酯基、碳碳双键
(填两种).(2)A经光照固化转变为B,发生了
加成
加成
反应(填反应类型).(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式.
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4
.
光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。
(1)请指出A中含有的官能团_________(填两种)。
(2)A经光照固化转变为B,发生了_________反应(填反应类型)。
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式________________________。
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式____________。
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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。
(1)请指出A中含有的官能团(填两种)。
(2)A经光照固化转变为B,发生了_______________反应(填反应类型)。
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式____________________________________。
(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________________。
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