光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：

已知：

Ⅰ．（R，R’为烃基或氢）

Ⅱ． （R，R’为烃基）

（1）A分子中含氧官能团名称为          。

（2）羧酸X的电离方程式为          。

（3）C物质可发生的反应类型为          （填字母序号）。

a．加聚反应    b． 酯化反应   c．  还原反应    d．缩聚反应

（4）B与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为          。

（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为          。

（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为

、、         和         。

（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为          。

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知：
Ⅰ．（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ．（R，R’为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为         。
（2）羧酸X的电离方程式为         。
（3）C物质可发生的反应类型为         （填字母序号）。
a．加聚反应    b． 酯化反应   c． 还原反应    d．缩聚反应
（4）B与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为         。
（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为         。
（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、、        和        。
（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为         。

某研究小组以甲苯为主要原料，合成医药中间体F和Z。

②苯胺中氨基易被氧化。

请回答下列问题：

（1）有机物A的结构简式为???????????????????? 。C→D的反应类型是____???????? 。

（2）下列有关F的说法正确的是????????? 。

A．分子式是C7H7NO2Br

B．能形成内盐

C．能发生酯化反应和缩聚反应

D．1 mol的F最多可以和2 mol NaOH反应

（3）B→C的化学方程式是???????? 。在合成F的过程中，B→C步骤不能省略，理由是____? 。

（4）D→E反应所需的试剂是____???????????? 。

（5）同时符合下列条件的Z的同分异构体有____????? 种（不含Z，不考虑立体异构）。

①含有苯环结构??? ②与Z含有相同官能团

写出其中核磁共振氢谱峰面积比为2：2：2：1：1的同分异构体的结构简式____????????????? 。

某研究小组以甲苯为主要原料，合成医药中间体F和Z。

②苯胺中氨基易被氧化。
请回答下列问题：
（1）有机物A的结构简式为                    。C→D的反应类型是____        。
（2）下列有关F的说法正确的是         。