Question

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知：
Ⅰ．（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ．（R，R’为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为         。
（2）羧酸X的电离方程式为         。
（3）C物质可发生的反应类型为         （填字母序号）。
a．加聚反应    b． 酯化反应   c． 还原反应    d．缩聚反应
（4）B与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为         。
（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为         。
（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、、        和        。
（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为         。

Answer 1

（1）醛基
（2）CH₃COOHCH₃COO^-+H⁺
（3）a  b   c（选对两个给1分，错选或多选为0分）
（4）

（5）CH₃COOCH=CH₂
（6）、
（7）

一定条件

（此方程式不写条件不扣分）

解析试题分析：根据D，可以反推出A为，B为，C为，羧酸X为CH₃COOH，E为，F为；
（1）分子中含氧官能团名称为醛基
（2）羧酸CH₃COOH的电离方程式为CH₃COOHCH₃COO^-+H⁺
（3）含有碳碳双键，羧基，苯环，可发生的反应类型为加聚反应，酯化反应，还原反应，不能发生缩聚反应。
（4）与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为
+
（5）E的结构简式为CH₃COOCH=CH₂。
（6）与具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为、、、。
（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为

一定条件

。

考点：本题考查有机合成。