(12分)在FeCl₃溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液处理和资源回收的过程简述如下：
I：向废液中投入过量铁屑，充分反应后分离出固体和滤液：
II：向滤液中加入一定量石灰水，调节溶液pH，同时鼓入足量的空气。
试回答下列问题：
⑴FeCl₃蚀刻铜箔反应生成FeCl₂和CuCl₂的离子方程式为                     ；
证明蚀刻后的混合物溶液仍存在Fe³⁺的操作是：                              
                                                             。
⑵过程I加入铁屑的主要作用是_______        ；从固体中分离出铜需采用的方法是_________                                 。
⑶过程II中发生主要反应的化学方程式为：_____         ，             。

(12分)在FeCl₃溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液处理和资源回收的过程简述如下：

I：向废液中投入过量铁屑，充分反应后分离出固体和滤液：

II：向滤液中加入一定量石灰水，调节溶液pH，同时鼓入足量的空气。

试回答下列问题：

⑴FeCl₃蚀刻铜箔反应生成FeCl₂和CuCl₂的离子方程式为                     ；

证明蚀刻后的混合物溶液仍存在Fe³⁺的操作是：                              

                                                             。

⑵过程I加入铁屑的主要作用是_______        ；从固体中分离出铜需采用的方法是_________                                 。

⑶过程II中发生主要反应的化学方程式为：_____         ，             。

现有浓度分别为1 mol/L的FeCl₃、FeCl₂、CuCl₂混合溶液100 mL，加入一定量的铁粉，按下列情况填空。

（1）充分反应后，如果溶液中还有一定量的Cu^2＋，则溶液中一定含有的金属离子还有________________，该离子在溶液中的物质的量范围____________________，

可能含有的金属或金属离子为____________。

（2）反应完毕后，铁粉有剩余，溶液中一定含有的金属离子为___________，为______mol，一定没有的金属离子为______________。

（3）若向FeCl₃溶液中加入适量氢碘酸，发生反应的离子方程式为____________________。

（4）某一反应体系中有反应物和生成物共五种物质：S，H₂S，HNO₃，NO，H₂O。该反　　 应的化学方程式为________________________________；若反应过程中转移了0.3mol　　 电子，则氧化产物的质量是___________g；生成的气体在标况下的体积是________L。