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工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．
1．原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42－等杂质，必须精制后才能供电解使用．精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加入的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)③BaCl2，这3种试剂添加的合理顺序是________(填序号)洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl，选用的试剂为________．(填序号)
(①饱和Na2CO3溶液 ②饱和K2CO3溶液 ③75％乙醇 ④四氯化碳)
2．下图是离子交换膜(允许钠离子通过，不允许氢氧根与氯离子通过)法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是________；NaOH溶液的出口为________(填字母)；精制饱和食盐水的进口为________(填字母)；干燥塔中应使用的液体是________．
（1）原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质，必须精制后才能供电解使用．精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加入的试剂分别为①Na2CO3、②HCl（盐酸）③BaCl2，这3种试剂添加的合理顺序是______（填序号）洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl，选用的试剂为______．（填序号）（①饱和Na2CO3溶液 ②饱和K2CO3溶液 ③75%乙醇 ④四氯化碳）
（2）如图是离子交换膜（允许钠离子通过，不允许氢氧根与氯离子通过）法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是______；NaOH溶液的出口为______（填字母）；精制饱和食盐水的进口为______（填字母）；干燥塔中应使用的液体是______．
Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产，其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注．
（1）SiCl4可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl4与H2和O2反应，产物有两种，化学方程式为______ SiO2+4HCl 查看习题详情和答案>>
工业上用电解饱和食盐水的方法制取氢氧化钠、氯气和氢气，但电解前要进行粗盐精制。试回答下列问题：
资料卡片：
(1)选择试剂以除去下表所列的可溶性杂质。
| 杂质 | 加入的试剂 |
| CaCl2 | Ⅰ________ |
| MgCl2 | Ⅱ________ |
| 硫酸盐 | Ⅲ________ |
(3)最后加适量的盐酸以调节溶液至中性并除去过量的CO32—.其中盐酸除去CO32—的化学方程式为______________________________________________________________________． 查看习题详情和答案>>
工业上用电解饱和食盐水的方法制取氢氧化钠、氯气和氢气，但电解前要进行粗盐精制。试回答下列问题：
资料卡片：
(1)选择试剂以除去下表所列的可溶性杂质。
|
杂质 |
加入的试剂 |
|
CaCl2 |
Ⅰ________ |
|
MgCl2 |
Ⅱ________ |
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硫酸盐 |
Ⅲ________ |
(2)精制过程既要将杂质离子Ca2＋、Mg2＋、SO42— 完全沉淀，又要保证不引入新的杂质，为此你认为加入所选沉淀剂的合理顺序为：Ⅱ、________、________(填序号)．
(3)最后加适量的盐酸以调节溶液至中性并除去过量的CO32—.其中盐酸除去CO32—的化学方程式为______________________________________________________________________．
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资料卡片：
(1)选择试剂以除去下表所列的可溶性杂质。
| 杂质 | 加入的试剂 |
| CaCl2 | Ⅰ________ |
| MgCl2 | Ⅱ________ |
| 硫酸盐 | Ⅲ________ |
(3)最后加适量的盐酸以调节溶液至中性并除去过量的CO32—.其中盐酸除去CO32—的化学方程式为______________________________________________________________________．