硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式　          　　。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和H₂，该反应的氧化剂是             ；H₂还原过程中若混O₂，可能引起的后果是            。（2）下列有关硅材料的说法正确的是      （填字母）。

A．晶体硅和二氧化硅晶体的结构都类似金刚石，都常用来制造电子部件。

B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承。

C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂为原料制成的，没有固定的熔点。

D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅。

（3）三硅酸镁（2MgO?3SiO₂?nH₂O）被用来治疗胃溃疡，是因为该物质不溶于水，服用后能中和胃酸，作用持久。写出三硅酸镁与胃酸（盐酸）反应的化学方程式：

合成氨生产技术的创立开辟了人工固氮的途径，对化学工业技术也产生了重大影响。

(1) 500℃、50MPa时，在容积为5L的密闭容器中加入4 mol N₂、8 mol H₂，反应达平衡时N₂的转化率为25%，该反应的平衡常数为K，则K＝__________________。

(2) 500℃、50MPa时，在容积为5L的密闭容器中，按下列配比作为起始物质，达到平衡后N₂的转化率仍为25%的是_____________

A．2molN₂+4molH₂                      B．2molN₂+4molH₂+ 6molHe

C．4molN₂+8molH₂+6molHe              D．3molN₂+5molH₂+2molNH₃

(3)希腊阿里斯多德大学的 George Marnellos 和 Michael Stoukides，发明了一种合成氨的新方法，在常压下，把氢气和用氦气稀释的氮气分别通入一个加热到570℃的电解池，利用能通过氢离子的多孔陶瓷固体作电解质，氢气和氮气在电极上合成了氨，转化率达到78%，试写出电解池阴极的电极反应式　　　　                   　　　。

(4)合成氨工厂常通过测定反应前后混合气体的密度来确定N₂的转化率。某工厂测得反应前合成塔中N₂和H₂混合气体的密度为0.554g·L^-1，从合成塔出来的混合气体在相同条件下密度为0.693g·L^-1(密度均在标准状况下测定)，则该合成氨厂N₂的转化率_____________。

合成氨生产技术的创立开辟了人工固氮的途径，对化学工业技术也产生了重大影响。

(1) 500℃、50MPa时，在容积为5L的密闭容器中加入4 mol N₂、8 mol H₂，反应达平衡时N₂的转化率为25%，该反应的平衡常数为K，则K＝__________________。

(2) 500℃、50MPa时，在容积为5L的密闭容器中，按下列配比作为起始物质，达到平衡后N₂的转化率仍为25%的是_____________

A．2molN₂+4molH₂                     B．2molN₂+4molH₂+ 6molHe

C．4molN₂+8molH₂+6molHe             D．3molN₂+5molH₂+2molNH₃

(3)希腊阿里斯多德大学的 George Marnellos 和Michael Stoukides，发明了一种合成氨的新方法，在常压下，把氢气和用氦气稀释的氮气分别通入一个加热到570℃的电解池，利用能通过氢离子的多孔陶瓷固体作电解质，氢气和氮气在电极上合成了氨，转化率达到78%，试写出电解池阴极的电极反应式　　　　                  　　　。

(4)合成氨工厂常通过测定反应前后混合气体的密度来确定N₂的转化率。某工厂测得反应前合成塔中N₂和H₂混合气体的密度为0.554g·L^-1，从合成塔出来的混合气体在相同条件下密度为0.693g·L^-1(密度均在标准状况下测定)，则该合成氨厂N₂的转化率_____________。