Question

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式　          　　。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和H₂，该反应的氧化剂是             ；H₂还原过程中若混O₂，可能引起的后果是            。（2）下列有关硅材料的说法正确的是      （填字母）。

A．晶体硅和二氧化硅晶体的结构都类似金刚石，都常用来制造电子部件。

B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承。

C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂为原料制成的，没有固定的熔点。

D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅。

（3）三硅酸镁（2MgO?3SiO₂?nH₂O）被用来治疗胃溃疡，是因为该物质不溶于水，服用后能中和胃酸，作用持久。写出三硅酸镁与胃酸（盐酸）反应的化学方程式：

                                                                       

Answer 1

（1）①SiHCl₃+H₂= Si+3HCl　 ②H₂O，发生爆炸。

（2）BC

（3）2MgO?3SiO₂?NH₂O+4HCl2MgCI₂+3SiO₂+（n+2）H₂O