（2010?聊城二模）下列反应的离子方程式中正确的是（　　）

W、X、Y、Z均为短周期主族元素，W的最外层电子数与核外电子总数之比为3：8；X的核外电子总数与Y的最外层电子数相等，X的原子序数是Z的原子序数的一半；W、Y、Z位于同一周期．
（1）W的单质是一种色晶体．写出X的氢化物的电子式
Z单质的晶体类型是类型
（2）W、Y、Z三种元素的气态氢化物稳定性由高到低的顺序是．（用化学式表示，Z的气态氢化物与其同主族元素气态氢化物化学式写法相似）．
（3）已知A、B、C、D四种物质存在的反应关系：A+B-→C+D
①若A是Y和Z常见价态的化合物，B是X的氢化物，D是Y的氢化物，反应过程中没有化合价变化，该反应的化学方程式是．
②若A是Z的单质，B为红色固体，D为紫红色固体单质，高温下发生该反应，C的化学式是．D与X元素最高价氧化物对应水化物的浓溶液反应，生成的气体会对大气造成污染．用烧碱溶液吸收该气体生成两种盐，其中一种盐可用作防腐剂，烧碱溶液吸收气体的离子方程式是．

硅及其化合物对人类现代文明具有特殊贡献．请回答下列有关问题：
（1）硅原子的结构示意图：；
（2）下列物品或设备所用材料属于硅酸盐的是；
①长江三峡水泥大坝②石英光导纤维③陶瓷坩埚④普通玻璃⑤硅太阳能电池
A．①②③B．③④⑤C．②③④D．①③④
（3）常温下，SiCl₄为液态，沸点为57.6℃，在空气中冒白雾．制备高纯度硅的中间产物SiCl₄中溶有液态杂质，若要得到高纯度SiCl₄，应采用的方法是；用化学方程式及必要文字解释SiCl₄在空气中冒白雾的原因：；
（4）工业上可用SiCl₄（g）制备高温结构陶瓷氮化硅，其反应方程式为：
3SiCl₄（g）+2N₂（g）+6H₂（g）

高温

Si₃N₄（s）+12HCl（g）；△H=akJ?mol（a＜0）
①该反应的平衡常数表达式K=；
②在密闭恒容容器中，能表示上述反应达到平衡状态的是；
A.3v_逆（N₂）=v_正（H₂）      B．v_正（HCl）=4v_正（SiCl₄）
C．混合气体密度保持不变      D．c（N₂）：c（H₂）：c（HCl）=1：3：6
③在某条件下达到平衡时，H₂与HCl物质的量之比为m：n；保持其他条件不变，降低温度达到新平衡时，H₂与HCl物质的量之比m：n（填“＞”“=”或“＜”）．

氮化硅是一种高温陶瓷材料，它熔点高、硬度大、化学性质稳定，工业上曾普遍采用高纯硅与纯氮在1 300℃下反应制得．
（1）根据性质，推测氮化硅的用途是（填序号）．
①制汽轮机叶片    ②制有色玻璃    ③制永久性模具    ④制柴油机
（2）氮化硅陶瓷抗腐蚀能力强，除氢氟酸外，它不与其他无机酸反应，试推测该陶瓷被氢氟酸腐蚀的化学反应方程式：．
（3）四氯化硅和氮气在氢气的气氛保护下，加强热发生反应，可得较高纯度的氮化硅，反应的化学方程式为．