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物质的组成可用不同形式表示：
(1)将下列硅酸盐改写成氧化物的形式(改写时注意金属氧化物在前，非金属氧化物在后，低价在前，高价在后)
①镁橄榄石(Mg2SiO4)________
②高岭石Al2(Si2O5)(OH)4________
(2)许多含氧酸及其盐类均可以类似硅酸盐的改写为氧化物形式，请继续改写下列物质：
2HNO3________，
HCOOH________，
2KAl(SO4)2·12H2O________，
通过以上改写可知，HNO3的酸酐为________，HCOOH与浓H2SO4反应可制成________气体．
物质的组成可用不同形式表示．
(1)将下列硅酸盐改写成氧化物的形式(改写时注意金属氧化物在前，非金属氧化物在后，低价在前，高价在后，H2O一般写在后面)．
①角闪石棉[Ca2Mg5(Si4O11)2(OH)2]________，
②钾云母[K2H4Al6Si6O24]________．
(2)某型号水泥的主要成分有：Ca2SiOx，Ca3SiOy，Ca3Al2Oz，则x＝________，y＝________，z＝________．
(3)许多含氧酸及其盐类均可以类似硅酸盐形式改写成氧化物形式，请继续改写以下物质：HNO3________，HCOOH________．
通过以上改写可知，HNO3的酸性氧化物为________，HCOOH与浓硫酸反应可制取________气体．
(4)已知在一定条件下．Fe在Cl2中燃烧可以生成Fe3Cl8，它可以看做是FeCl2·2FeCl3，类似地碘与铁在一定条件下可得到Fe3I8，则它可看做是________．
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已知A、B、C、D、E五种元素的原子序数依次递增，A、B、C、D位于前三周期．A位于周期表的s区，其原子中电子层数和未成对电子数相同；B的基态原子中电子占据三种能量不同的原子轨道，且每种轨道中的电子总数相同；D原子的核外成对电子数是未成对电子数的3倍．A、B、D三种元素组成的一种化合物M是新装修居室中常含有的一种有害气体，A、B二种元素组成的原子个数比为1：1的化合物N是常见的有机溶剂．E有“生物金属”之称，E4+离子和氩原子的核外电子排布相同．请回答下列问题：（答题时，A、B、C、D、E用所对应的元素符号表示）
（1）E的基态原子的外围电子排布式为
（2）下列叙述正确的是
a．M与水分子间能形成氢键，N是非极性分子
b．M和二氧化碳分子中的中心原子均采用sp2杂化
c．N分子中含有6个σ键和1个π键
d．BD2晶体的熔点、沸点都比二氧化硅晶体的低
（3）E的一种氧化物Q，其晶胞结构如右上图所示，则Q的化学式为
（4）电镀厂排放的废水中常含有剧毒的BC-离子，可在Q的催化下，先用NaClO将BC-氧化成BCD-，再在酸性条件下BCD-继续被NaClO氧化成C2和BD2．
①A、B、C、D四种元素的电负性由小到大的顺序为
②与BCD-互为等电子体的分子、离子的化学式依次为
③上述反应中后一步反应的离子方程式是
（5）在浓的ECl3的盐酸溶液中加入乙醚，并通入HCl至饱和，可得到配位数为6、组成为ECl3?6H20的绿色晶体，该晶体中两舞更体的物质的量之比为1：5，则该配离子的化学式为
已知A、B、C、D、E五种元素的原子序数依次递增，A、B、C、D位于前三周期。A位于周期表的s区，其原子中电子层数和未成对电子数相同；B的基态原子中电子占据三种能量不同的原子轨道，且每种轨道中的电子总数相同；D原子的核外成对电子数是未成对电子数的3倍。A、B、D三种元素组成的一种化合物M是新装修居室中常含有的一种有害气体，A、B二种元素组成的原子个数比为1：1的化合物N是常见的有机溶剂。E有“生物金属”之称，E
离子和氩原子的核外电子排布相同。
请回答下列问题：（答题时，A、B、C、D、E用所对应的元素符号表示）
（1）E的基态原子的外围电子排布式为 。
（2）下列叙述正确的是 。（填字母）
a．M与水分子间能形成氢键，N是非极性分子
b．M和二氧化碳分子中的中心原子均采用sp2杂化
c．N分子中含有6个
键和1个
键
d．BD2晶体的熔点、沸点都比二氧化硅晶体的低
（3）E的一种氧化物Q，其晶胞结构如右上图所示，则Q的化学式为 ，该晶体中氧的配位数为 。
（4）电镀厂排放的废水中常含有剧毒的BC
离子，可在Q的催化下，先用NaClO将 BC氧化成BCD，再在酸性条件下BCD继续被NaClO氧化成C2和BD2。
① A、B、C、D四种元素的电负性由小到大的顺序为 。
② 与BCD互为等电子体的分子、离子的化学式依次为 （各写1种）。
③ 上述反应中后一步反应的离子方程式是 。
（5）在浓的ECl3的盐酸溶液中加入乙醚，并通入HCl至饱和，可得到配位数为6、组成为ECl3?6H20的绿色晶体，该晶体中两舞更体的物质的量之比为1：5，则该配离子的化学式为 。
查看习题详情和答案>>清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一，硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质（如某些有机物，无机盐，金属、Si、SiO2粉尘等）。常用的化学清洗剂有高纯水、有机溶剂、双氧水、浓酸、强碱等。其中去除硅的氧化物，通常用一定浓度的HF溶液，室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形成金字塔形的绒面，增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH、Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反应25～35 min，效果良好。回答下列问题
Ⅰ.（1）写出晶片制绒反应的离子方程式 ，对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型，他指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH一反应，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反应中氧化剂为 。
（2）本校化学兴趣小组同学，为验证Seidel的理论是否正确，完成以下实验：
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实验事实 |
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事实一 |
水蒸汽在600℃时可使粉末状硅缓慢氧化并放出氢气。 |
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事实二 |
盛放于铂或石英器皿中的纯水长时间对粉末状还原硅无腐蚀作用。 |
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事实三 |
普通玻璃器皿中的水仅因含有从玻璃中溶出的微量的碱便可使粉末状硅在其中缓慢溶解。 |
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事实四 |
在野外环境里，用较高百分比的硅铁粉与干燥的Ca(OH)2和NaOH，点着后焖烧，可剧烈放出H2。 |
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事实五 |
1g（0.036mo1）Si和20mL含有lgNaOH（0.025mol）的溶液，小心加热（稍微预热），收集到约1700mL H2，很接近理论值（1600mL）。 |
结论：从实验上说明碱性水溶液条件下，H2O可作 剂；NaOH作_____ 剂，降低反应 。高温无水环境下，NaOH作 剂。
Ⅱ.在工业中利用镁制取硅：2Mg＋SiO2
2MgO＋Si，同时有副反应发生：2Mg＋SiMg2Si，Mg2Si遇盐酸迅速反应生成SiH4(硅烷)，SiH4在常温下是一种不稳定、易分解的气体。如图是进行Mg与SiO2反应的实验装置：
由于氧气的存在对该实验有较大影响，实验中应通入气体X作为保护气，试管中的固体药品可选用________(填序号)。 a．石灰石 b．锌粒 c．纯碱
（4）实验开始时，必须先通入X气体，再加热反应物，其理由是______________________________，当反应开始后，移走酒精灯反应能继续进行，其原因是___________________________。
（5）反应结束后，待冷却至常温时，往反应后的混合物中加入稀盐酸。可观察到闪亮的火星，产生此现象的原因用化学方程式表示为_______________________________________。
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