题目内容
如图甲所示,abcd为导体做成的框架,其平面与水平面成θ角.质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好,回路的总电阻为R;整个装置放在垂直于框架平面的变化的磁场中.磁场的磁感应强度变化情况如图乙所示,PQ始终静止.关于PQ与ab、cd间摩擦力f在0到t1 s内的变化情况的说法中,有可能正确的是( )
| A．f一直增大 |
| B．f一直减小 |
| C．f先减小后增大 |
| D．f先增大后减小 |
AC
由i=
=
S/R=kS/R(k为图线斜率)可知,在0—t1时间内,i的大小恒定,且F安=Btil先减小后增大.在B正向减小的过程中,PQ棒受安培力沿斜面向上且逐渐减小,如图(a),在B反向增大的过程中,PQ棒受安培力沿斜面向下且逐渐增大,如图(b).前一种情况中PQ棒受静摩擦力可能随F安减小而逐渐减小(当f静沿斜面向下时),也可能随F安减小而逐渐增大(当f静沿斜面向上时).后一种情况PQ棒受静摩擦力随安培力增大而逐渐增大(f静方向一定沿斜面向上).故正确选项为AC.
=S/R=kS/R(k为图线斜率)可知,在0—t1时间内,i的大小恒定,且F安=Btil先减小后增大.在B正向减小的过程中,PQ棒受安培力沿斜面向上且逐渐减小,如图(a),在B反向增大的过程中,PQ棒受安培力沿斜面向下且逐渐增大,如图(b).前一种情况中PQ棒受静摩擦力可能随F安减小而逐渐减小(当f静沿斜面向下时),也可能随F安减小而逐渐增大(当f静沿斜面向上时).后一种情况PQ棒受静摩擦力随安培力增大而逐渐增大(f静方向一定沿斜面向上).故正确选项为AC.
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