题目内容
合成氨的流程示意图如下：
回答下列问题：
（1）工业合成氨的原料是氮气和氢气。氮气是从空气中分离出来的，通常使用的两种分离方法是 ， ；氢气的来源是水和碳氢化合物，写出分别采用煤和天然气为原料制取氢气的化学反应方程式 ， ；
（2）设备A中含有电加热器，触媒和热交换器，设备A的名称是 ，其中发生的化学反应方程式为 ；
（3）设备B的名称是 ，其中m和n是两个通水口，入水口是 （填“m”或“n”）。不宜从相反方向通水的原因是 ；
（4）设备C的作用是 ；
（5）在原料气制备过程中混有的CO对催化剂有毒害作用，欲除去原料气中的CO，可通过以下反应来实现：
CO(g)+H2O(g)
CO2(g)+H2(g)
已知1000K时该反应的平衡常数K=0.627，若要使CO的转化率超过90%，则起始物中的c(H2O):c(CO)不低于 。
：（1）液化、分馏；与碳反应后除去CO2；C+H2O
CO+H2；CH4+H2O
CO+3H2；（2）合成（氨）塔；N2(g)+3H2(g)
2NH3(g)；（3）冷却塔（或冷凝器）；n；高温气体由冷却塔的上端进入，冷却水从下端进入，逆向冷却效果好；（4）将液氨与未反应的原料气分离；（5）13.8。
解析
电镀污泥中含有Cr(OH)3、Al2O3、ZnO、CuO、NiO等物质，工业上通过“中温焙烧—钠氧化法”回收Na2Cr2O7等物质。
已知：水浸后溶液中存在Na2CrO4、NaAlO2[也可表示为NaAl(OH)4]、Na2ZnO2等物质。
（1）水浸后回收Cu、Ni时的操作是 。水浸后的溶液呈 性（“酸”、“碱”、“中”）
（2）完成氧化焙烧过程中生成Na2CrO4的化学方程式
Cr(OH)3 + Na2CO3 + O2
Na2CrO4 + CO2 + H2O
（3）滤渣II的主要成分有Zn(OH)2、 。
（4）已知：①除去滤渣II后，溶液中存在如下反应：CrO42—+ 2H+
Cr2O72—+ H2O；②Na2Cr2O7、Na2CrO4在不同温度下的溶解度如下表
| 化学式 | 20℃ | 60℃ | 100℃ |
| Na2SO4 | 19.5 | 45.3 | 42.5 |
| Na2Cr2O7 | 183 | 269 | 415 |
| Na2CrO4 | 84 | 115 | 126 |
“系列操作”中为：继续加入H2SO4， 冷却结晶，过滤。继续加入H2SO4目的是__________________________________________________。
（5）工业上还可以在水浸过滤后的溶液（Na2CrO4）加入适量H2SO4，用石墨做电极电解生产金属铬，写出生成铬的电极反应方程式 。
辉铜矿主要成分Cu2S，软锰矿主要成分MnO2，它们都含有少量SiO2、Fe2O3等杂质。工业上综合利用这两种矿物制备硫酸锰和碱式碳酸铜的主要工艺流程如下：
已知：①MnO2能将金属硫化物中的硫氧化为单质硫；
②[Cu(NH3)4]SO4常温稳定，在热水中会分解生成NH3；
③部分金属阳离子生成氢氧化物沉淀 的pH范围如下表所示（开始沉淀的pH按金属离子浓度为1.0 mol·L-1计算）：
| | 开始沉淀的pH | 沉淀完全的pH |
| Fe3＋ | 1.1 | 3.2 |
| Mn2＋ | 8.3 | 9.8 |
| Cu2＋ | 4.4 | 6.4 |
（1）酸浸时，为了提高浸取率可采取的措施有 （任写一点）。
（2）酸浸时，得到的浸出液中主要含有CuSO4、MnSO4等。
写出该反应的化学方程式 。
（3）调节浸出液pH的范围为 ，其目的是 。
（4）本工艺中可循环使用的物质是 （写化学式）。
（5）在该工艺的“加热驱氨”环节，若加热的温度过低或过高，都将造成 的结果。
（6）用标准BaCl2溶液测定样品中MnSO4·H2O质量分数时，发现样品纯度大于100%（测定过程中产生的误差可忽略），其可能原因有 (任写一种)。
2013年6月20日，中国成为世界上第二个成功进行“太空授课”的国家。如图为太空授课中航天员用注射器向水球内注入空气，在水球内产生了 两个标准的球形气泡，气泡既没有被挤出水球也没有融合到一起，水球也没有爆裂。下列说法错误的是
| A．实验是科学发现的重要手段，科学发现往往需要建立在实验事实的基础之上 |
| B．水的分子组成和结构，在太空中没有发生改变 |
| C．在太空实验中，如果往水球中分别注入氢气、氨气，同样也能观察到两个气泡 |
| D．水球实验中，可用吸水纸捕获洒落的水滴 |
，其平衡常数表达式为K= 。在接触法产生H2SO4的过程中,对“废气、废水、废渣、废热”的处理正确的是( )
①废气用氨水处理 ②污水用石灰乳处理 ③废渣用来造水泥或炼铁 ④设置“废热”锅炉产生蒸气来供热或发电
| A．只有①② | B．只有①③④ | C．只有①②③ | D．全部 |