题目内容

10.下表的一些物质或概念间的从属关系中不符合图示要求的是(  )
XYZ
氧化物化合物纯净物
A苯的同系物芳香烃芳香族化合物
B胶体分散系混合物
C电解质离子化合物化合物
D碱性氧化物金属氧化物氧化物
A.AB.BC.CD.D

分析 由图可知,概念的范畴为Z包含Y,Y包含X,然后利用物质的组成和性质来分析物质的类别,再根据概念的从属关系来解答.

解答 解:A.苯的同系物是含有一个苯环,与饱和烃基相连,组成相差CH2的物质,芳香烃是含苯环的烃,芳香族化合物是含苯环的化合物,苯的同系物属于芳香烃,芳香烃属于芳香族化合物,故A正确;
B.胶体属于分散系,而分散系都是由两种以上的物质组成,则属于混合物,故B正确;
C.电解质和离子化合物都属于化合物,但某些共价化合物是电解质,则电解质包含离子化合物,应X包含Y,故C错误;
D.氧化物只有两种元素组成,则碱性氧化物与金属氧化物都属于氧化物,碱性氧化物都是由金属元素和氧元素组成,但金属氧化物不一定是碱性氧化物,如过氧化钠等,则金属氧化物包含碱性氧化物,故D正确.
故选C.

点评 本题考查物质的组成和分类,学生应能识别常见物质的种类,并能利用其组成来判断物质的类别是解答的关键.本题较简单,属于基础题.

练习册系列答案
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2.硅及其化合物的开发由来已久,在现代生活中有广泛应用.回答下列问题.
(1)工业上提纯硅有多种路线,其中一种工艺流程示意图及主要反应如图.

发生的主要反应
电弧炉SiO2+2C$\frac{\underline{\;1600-1800℃\;}}{\;}$Si+2CO↑
流化床反应器Si+3HCl$\frac{\underline{\;250-300\;}}{\;}$SiHCl3+H2
还原炉
①还原炉中发生主要反应的化学方程式为SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si+3HCl,该工艺中可循环使用的物质为HCl和H2(填化学式).用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热也可以生产碳化硅,该反应的化学方程式为SiO2+3C$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$SiC+2CO↑.
②在流化床反应的产物中,SiHCl3大约占85%,还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有关物质的沸点数据如下表,提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和精馏(或蒸馏).
物质SiSiCl4SiHCl3SiH2Cl2SiH3ClHClSiH4
沸点/°C235557.631.88.2-30.4-84.9-111.9
③SiHCl3极易水解,其完全水解的化学方程式为SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑.
(2)氮化硅(Si3N4)是一种高温结构材料,粉末状态的Si3N4可以由SiCl4的蒸气和NH3反应制取.粉末状Si3N4遇空气和水都不稳定.但将粉末状的Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185°C的密闭容器中进行热处理,可以制得结构十分紧密、对空气和水都相当稳定的固体材料,同时还得到遇水不稳定的Mg3N2
①由SiCl4和NH3反应制取Si3N4的化学方程式为3SiCl4+4NH3$\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
②四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,使生成的Si3N4沉积在石墨表面可得较高纯度的氮化硅,该反应的化学方程式为3SiCl4+2N2+6H2 $\frac{\underline{\;高温\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
③Si3N4和适量氧化镁在230×1.01×105Pa和185°C的密闭容器中进行热处理的过程中,除生成Mg3N2外,还可能生成SiO2物质(填化学式).热处理后除去MgO和Mg3N2的方法是加足量稀盐酸过滤.

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