题目内容
【题目】下列物质中只含离子键的是( )
A.KClB.HCl
C.NaOHD.Na2SO4
【答案】A
【解析】
A. KCl是离子化合物，只有离子键，故A符合题意；
B. HCl是共价化合物，只有共价键，故B不符合题意；
C. NaOH、D. Na2SO4是离子化合物，含有离子键和共价键，故C、D不符合题意；
综上所述，答案为A。
【题目】以硅石(主要成分SiO2)为起始原料生产高纯多晶硅的简化工艺流程如下图所示：
(1)在电弧炉中，生成粗硅的化学方程式为____________，该反应氧化剂与还原剂物质的量之比为_____________。
(2)合成炉中有关反应的数据如下表所示：
热化学方程式 | 平衡常数 | |
主反应 | Si(s)+3HCl(g) | K1 |
副反应 | Si(s)+4HCl(g) | K2 |
①主反应的温度需严格控制在280～300℃之间，若温度过低，则__________________；若温度太高，SiHCl3则会转化生成SiCl4，该转化的热化学方程式为_____________________。
②平衡时，
的值a随着
的值b的变化而变化，则
=______(用含K1、K2的代数式表示)。工业上用H2适当稀释HCl来提高的值，请用平衡移动原理加以解释________________________。
(3)还原炉中的主要反应为SiHCl3(g)+H2(g)=Si(s)+3HCl(g) △H>0。实验室中在1.0L密闭容器中研究得到SiHCl3的转化率在不同温度条件下随n(H2)/(SiHCl3)变化的曲线如图所示。t1、t2、t3表示的温度高低顺序为_______；t1温度时平衡常数Ka=______(保留两位小数)。
